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Buen precio Wafer de carburo de silicio de 4 pulgadas Sic Tipo 6H-P espesor 350 μm grado cero / primario en línea
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Wafer epitaxial SiC de 6 pulgadas de ultraalta tensión 100 ¢ 500 μm para dispositivos MOSFET

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2 pulgadas / 4 pulgadas / 6 pulgadas / 5,0 * 5,0 mm / 10,0 * 10,0 mm Sic Substrato de carburo de silicio Tipo 3C-N En el eje: < 111 > ± 0,5 ° Grado de producción Grado de simulacro

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Ofras de semillas de cristal de SiC Dia 205 203 208 Producción grado de crecimiento PVT/HTCVD

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Obleas epitaxiales de SiC de 2 pulgadas, 3 pulgadas, 4 pulgadas y 6 pulgadas 4H-N, grado de producción

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Sustrato epitaxial de SiC de 8 pulgadas, grado MOS, grado Prime, tipo 4H-N, diámetro grande

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Diámetro de la oblea epitaxial SiC de 6 pulgadas 150 mm Tipo 4H-N Tipo 4H-P Tipo para comunicación 5G

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4H-N tipo de sustrato SiC 10x10mm Wafer para electrónica de potencia

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Wafer epitaxial de 4 pulgadas de SiC 4H-N Diámetro 100 mm espesor 350 μm grado primario

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4H-N tipo de sustrato SiC 10x10mm Wafer para electrónica de potencia

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Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs

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Wafer epitaxial SiC de 4H de 6 pulgadas 100 μm/200 μm/300 μm para dispositivo MOS de ultraalta tensión (UHV)

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Wafer epitaxial de SiC de 8 pulgadas, diámetro 200 mm, espesor 500 μm, tipo 4H-N

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