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Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: ZMSH

Certificación: rohs

Número de modelo: Wafer de semillas de SiC

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 25

Precio: by case

Tiempo de entrega: 2-4weeks

Condiciones de pago: T/T

Consiga el mejor precio
Resaltar:

Wafer de semillas de 4H SiC

,

MOSFETs Wafer de semillas de SiC

,

Wafer de semillas de SiC de 12 pulgadas

Polytype:
4 horas
Diámetro:
153, 155
El tamaño:
2 pulgadas-12 pulgadas, personalizado
Resistencia:
0.01 ~ 0.04Ω·cm
Error de orientación de la superficie:
4° hacia < 11-20> ± 0,5o
Aplicación:
MOSFET, dispositivo de radiofrecuencia
Polytype:
4 horas
Diámetro:
153, 155
El tamaño:
2 pulgadas-12 pulgadas, personalizado
Resistencia:
0.01 ~ 0.04Ω·cm
Error de orientación de la superficie:
4° hacia < 11-20> ± 0,5o
Aplicación:
MOSFET, dispositivo de radiofrecuencia
Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs

 

Resumen de lasOfras de semillas de SiC

 

 

 

Wafer de semillas de SiC 4H N tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas personalizado Usado para la fabricación de MOSFETs

 

Las obleas de cristal de semilla de carburo de silicio (SiC) sirven como materiales fundamentales en la industria de semiconductores.Fabricado a partir de materias primas de carburo de silicio (SiC) de alta pureza mediante procesos de transporte físico de vapor (PVT) o deposición química de vapor a alta temperatura (HTCVD), nuestra empresa se especializa en el suministro de 2-12 pulgadas de Wafers de cristal de semilla de SiC con varias especificaciones de diámetro (Dia153, 155, 203, 205, 208) para satisfacer los diversos requisitos de los clientes.

 

Equipado con instalaciones de producción de obleas de cristal de semillas de SiC de última generación, ZMSH posee capacidades completas que abarcan el crecimiento de cristales, el corte, la molienda y los procesos de pulido,que nos permite proporcionar servicios de personalización de alta precisiónAvanzando hacia adelante, we will continue to optimize manufacturing processes for large-size (8-12 inch) SiC seed crystal wafers while enhancing crystal quality and yield rates to facilitate their applications in high-end markets including power electronics, dispositivos de RF y vehículos de nuevas energías.

 

 


Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs 0

 

Características clave deOfras de semillas de SiC

 

 

• Conductividad térmica excepcional (490 W/m·K):Las obleas de cristal de semilla de SiC exhiben un rendimiento superior de disipación de calor, lo que las hace ideales para dispositivos de alta potencia.


• Banda ancha (3.2 eV):Las obleas de cristal de semilla de SiC demuestran resistencia a altas tensiones y temperaturas, con capacidades operativas superiores a 600 °C.


• Excelente estabilidad química:Las obleas de cristal de semilla de SiC ofrecen una notable resistencia a la corrosión para aplicaciones en ambientes hostiles.


• Baja densidad de defectos (EPD < 103/ cm2):La alta calidad de los cristales garantiza el funcionamiento estable del dispositivo.


• Resistencia mecánica excepcional:Con una dureza cercana al diamante, las obleas proporcionan una excelente resistencia al desgaste y al impacto.

 

 


Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs 1

 

Especificaciones técnicas de las obleas de semillas de SiC

 

 

Oferta de semillas de carburo de silicio
Polítipo 4 horas
Error de orientación de la superficie 4° hacia<11-20>±0,5o
Resistencia Personalización
Diámetro con una anchura superior a 20 mm
El grosor 600 ± 50 μm
La rugosidad CMP,Ra ≤ 0,2 nm
Densidad de los microtubos ≤ 1 ea/cm2
Las rasguños ≤ 5,Duración total ≤ 2*Diámetro
Las fichas de borde / hendiduras No hay
Marcado con láser frontal No hay
Las rasguños ≤ 2, longitud total ≤ diámetro
Las fichas de borde / hendiduras No hay
Áreas de politipo No hay
Marcado con láser trasero 1 mm (desde el borde superior)
El borde Las demás
Embalaje Las demás máquinas y aparatos para la fabricación de discos

 

 

 

 

 

 

 


 

Las aplicaciones principales deOfras de semillas de SiC

 

 

• Semiconductores de potencia:Las obleas de cristal de semilla de SiC se utilizan en la fabricación de dispositivos de energía de alta eficiencia como los MOSFET y los SBD.


• Dispositivos de RF:Las obleas de cristal de semilla de SiC son adecuadas para aplicaciones de alta frecuencia, incluidas las estaciones base 5G y los sistemas de radar.


• Vehículos de nueva energía:Las obleas de cristal de semilla de SiC se aplican en componentes críticos como sistemas de accionamiento eléctrico y cargadores a bordo.


• Inversores fotovoltaicos:Las obleas de cristal de semilla de SiC mejoran la eficiencia de conversión de energía al tiempo que reducen las pérdidas de energía.


• Aeroespacial:Las obleas de cristal de semilla de SiC son capaces de soportar temperaturas extremas y radiación para equipos electrónicos en ambientes hostiles.

 

 


 

Productos relacionados

 

 

ZMSH aprovecha tecnologías de fabricación patentadas para ofrecer servicios integrales de extremo a extremo desde el crecimiento de cristales hasta el procesamiento de precisión, incluido el tamaño de obleas personalizado (2-12 pulgadas),especificaciones de diámetro (Dia153/155/203/205/208)Nuestras obleas de cristal de semilla de SiC cumplen con los estándares internacionales avanzados en pureza cristalina, control de defectos y precisión dimensional.satisfacer las demandas de aplicaciones de gama alta en electrónica de potenciaEn la actualidad, el sector de la energía se ha convertido en uno de los sectores más importantes de la industria.Aseguramos un suministro fiable de volumen manteniendo un control de calidad estricto durante todo el proceso de fabricación y entregaNuestro equipo técnico proporciona soporte completo desde la selección del producto hasta el servicio postventa, ayudando a los clientes a optimizar sus soluciones de semiconductores.

 

 

 

Substratos de SiC de tipo 4H-N/SEMI:

 

 

Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs 2Wafer de semillas de SiC 4H N Tipo Dia 153 155 2 pulgadas-12 pulgadas Personalizado para la fabricación de MOSFETs 3

 

 


 

Pregunta y respuesta.

 

1P: ¿Para qué se utilizan las obleas de cristal de semilla de carburo de silicio?
R: Las obleas de cristal de semilla de carburo de silicio se utilizan principalmente para el cultivo de cristales de SiC de alta calidad para fabricar semiconductores de potencia, dispositivos de RF y electrónica de alta temperatura.

 

 

2P: ¿Por qué elegir el carburo de silicio sobre las obleas de silicio?
R: Las obleas de carburo de silicio ofrecen una conductividad térmica superior, un mayor voltaje de descomposición y un mejor rendimiento a altas temperaturas en comparación con las obleas de silicio tradicionales.

 

 


Etiqueta: #SiC semilla oblea, #Forma y tamaño personalizados, #H N tipo, #Dia 153,155, # 2inch-12inch, # fabricación de MOSFETs