Nombre De La Marca: | ZMSH |
Número De Modelo: | oblea sic epitaxial 6inch |
MOQ: | 25 |
Precio: | by case |
Tiempo De Entrega: | 5-8weeks |
Condiciones De Pago: | T/T |
Diámetro de la oblea epitaxial SiC de 6 pulgadas 150 mm tipo N tipo P tipo para comunicación 5G
Como material básico para la fabricación de dispositivos de energía de carburo de silicio (SiC), la oblea epitaxial 4H-SiC de 6 pulgadas se basa en un sustrato SiC de tipo 4H-N,cultivado mediante deposición química de vapor (CVD) para lograr una alta uniformidad, baja densidad de defectos y rendimiento eléctrico excepcional. Sus ventajas técnicas incluyen: - ¿ Qué?
· Estructura de cristal: (0001) orientación de la cara de silicio con una desviación de 4° para optimizar la correspondencia de la red y minimizar los defectos de fallas de micropípe/apilamiento. - ¿ Qué?
· Rendimiento eléctrico: la concentración de dopante de tipo N está controlada con precisión entre 2×1014·2×1019 cm−3 (tolerancia ± 14%), logrando una resistividad ajustable desde 0,015·0.15 Ω·cm mediante tecnología de dopaje in situ. - ¿ Qué?
· Control de defectos: densidad de defectos superficiales < 25 cm−2 (TSD/TED), densidad de defectos triangulares < 0,5 cm−2, garantizada por el crecimiento asistido por el campo magnético y el monitoreo en tiempo real.
Aprovechando los grupos de equipos CVD desarrollados en el país, ZMSH logra un control completo del proceso desde el procesamiento del sustrato hasta el crecimiento epitaxial,apoyo a ensayos rápidos en lotes pequeños (mínimo 50 obleas) y soluciones personalizadas para aplicaciones en vehículos de nueva energía, inversores fotovoltaicos y estaciones base 5G.
- ¿ Qué?Parámetro | Especificación |
Diámetro | Las medidas de ensayo se aplicarán en el caso de los vehículos de las categorías M1 y M2. |
El grosor | 50 ∼ 100 μm (alta tensión) |
Concentración de dopaje (N) | 2 × 1014 ¢ 2 × 1019 cm−3 |
Densidad de defectos superficiales | Se debe tener en cuenta que la cantidad de agua que se consume en el laboratorio es inferior a la cantidad de agua que se consume en el laboratorio. |
Resistencia | 0.015·0.15 Ω·cm (ajustable) |
Exclusión del borde | 3 mm |
1- El rendimiento del material.
2- Ventajas del proceso
3. Capacidades de personalización
1Sistemas de energía renovable
· Inversores de aerogeneradores: plaquetas epitaxiales de SiC de 1700 V para la conversión CC-AC en aerogeneradores a gran escala, que mejoran la eficiencia de conversión de energía hasta el 99,2% y reducen las pérdidas de CC en un 15%.
· Almacenamiento de energía híbrida: módulos SiC de 10 kV para convertidores bidireccionales CC-CC en sistemas de almacenamiento de baterías a escala de red, que permiten una transferencia de energía sin problemas entre las redes solar/eólica y la red.
2Infraestructura de energía de los centros de datos
· Unidad de refrigeración ultraeficiente: los MOSFET SiC de 650 V integrados en unidades de distribución de energía (PDU), alcanzan una eficiencia del 98% y reducen los costes de refrigeración en un 20% gracias a una menor disipación de calor.
· Redes eléctricas inteligentes: tiristores SiC de 3300 V para la transmisión de alta tensión CC (HVDC) en microrredes de centros de datos, reduciendo al mínimo las pérdidas de transmisión a < 0,3%.
3- El motor industrial.
· Motor de CA de alta potencia: módulos IGBT SiC de 1200 V para motores industriales en la fabricación de acero, que permiten un control de velocidad variable con una eficiencia del 97% y reducen el desperdicio de energía en un 12%.
· carretillas elevadoras eléctricas: inversores basados en SiC de 400 V para carretillas elevadoras eléctricas compactas y de alto rendimiento, que aumentan el tiempo de funcionamiento en un 30% gracias a un menor consumo de energía.
4. Sistemas de energía aeroespacial
· Unidades de potencia auxiliares (APU): plaquetas epitaxiales 6H-SiC resistentes a la radiación para inversores de APU en aeronaves, que funcionan de forma fiable a -55°C a 225°C y superan las pruebas de dureza a la radiación MIL-STD-883.
Servicios y cartera de productos de ZMSH Nuestro negocio principal abarca una cobertura completa de sustratos de SiC de 2 ′′12 pulgadas y obleas epitaxiales, incluyendo politipos de tipo 4H/6H-N, HPSI, SEMI y 3C-N,con capacidades avanzadas en fabricación a medida (e.g., corte a través de agujeros, pulido de doble cara, embalaje a nivel de obleas) y soluciones de extremo a extremo que abarcan la epitaxia de VDC, la implantación iónica, el recocido y la validación del dispositivo. Aprovechando el 75% de los equipos de CVD de origen nacional, ofrecemos soluciones rentables, logrando un 25% más bajos costos de producción en comparación con los competidores globales.
1P: ¿Cuáles son las aplicaciones principales de las obleas epitaxiales de SiC de 6 pulgadas? - ¿ Qué?
R: Se utilizan ampliamente en vehículos de nueva energía (inversores de accionamiento principal, sistemas de carga rápida), inversores fotovoltaicos, estaciones base de comunicación 5G y motores industriales,Mejora de la eficiencia energética y reducción del consumo de energía.
2P: ¿Cómo minimizar la densidad de defectos en las obleas epitaxiales de SiC de 6 pulgadas? - ¿ Qué?
R: La densidad de defectos se controla mediante la optimización de la relación C/Si (0,9), la regulación de la temperatura de crecimiento (1590°C) y el crecimiento asistido por el campo magnético, reduciendo los defectos fatales (por ejemplo,defectos triangulares) hasta < 0.4 centímetros - 2.
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