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Oblea del fosfuro de indio

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Oblea del fosfuro de indio

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Porcelana Dispositivo electrónico de alta potencia de tipo pin de fondo plano Cu≥99.9% fábrica

Dispositivo electrónico de alta potencia de tipo pin de fondo plano Cu≥99.9%

Resumen de cSubstrato superior del disipador de calor Dispositivo electrónico de alta potencia de tipo pin de fondo plano Cu≥99.9% El substrato del disipador de calor de cobre es un elemento disipador de calor ... Leer más
2025-04-14 17:37:13
Porcelana InComo arseniuro de indio2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas Substrato de cristal único N/P Tipo de semiconductor espesor de la oblea 300-800um fábrica

InComo arseniuro de indio2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas Substrato de cristal único N/P Tipo de semiconductor espesor de la oblea 300-800um

Descripción del producto InComo arseniuro de indio2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas Substrato de cristal único N/P Tipo de semiconductor espesor de la oblea 300-800um El indio InAs o indio arseniuro monolítico ... Leer más
2024-12-05 11:57:01
Porcelana Substrato de germanio GE Lentes ópticas de ventanas planas Aplicaciones de imágenes térmicas y espectroscopia infrarroja Alta dureza fábrica

Substrato de germanio GE Lentes ópticas de ventanas planas Aplicaciones de imágenes térmicas y espectroscopia infrarroja Alta dureza

Descripción del producto Substrato de germanio GE Ventanas planas Lentes ópticas Aplicaciones de imágenes térmicas y espectroscopia infrarroja Alta dureza La ventana de germanio (Ge) es un material químicamente ... Leer más
2024-11-18 10:47:17
Porcelana Substratos de semiconductores de obleas de germanio <111> Concentración fotovoltaica CPV Formas de tamaño personalizado fábrica

Substratos de semiconductores de obleas de germanio <111> Concentración fotovoltaica CPV Formas de tamaño personalizado

Descripción del producto Substratos de semiconductores de obleas de germanio < 111> concentrando CPV fotovoltaico en forma de tamaño personalizado El germanio de alta pureza es dopado con elementos trivalentes ... Leer más
2024-11-18 10:47:17
Porcelana Óxido de magnesio Pureza 95% MgO Film Substrato 5x5 10x10 20x20 espesor 0,5 mm 1,0 mm Orientación &lt;001&gt; &lt;110&gt; &lt;111&gt; fábrica

Óxido de magnesio Pureza 95% MgO Film Substrato 5x5 10x10 20x20 espesor 0,5 mm 1,0 mm Orientación <001> <110> <111>

Purificación de óxido de magnesio 95% MgO película de sustrato 5x5 10x10 20x20 espesor 0,5 mm orientación 1,0 mm Descripción del producto: El óxido de magnesio (MgO) monocristalino de sustrato de película ... Leer más
2024-11-18 10:47:16
Porcelana InP Wafer epitaxial láser Wafer de fosfuro de indio DFB/EML Wafer expitaxial para detección inteligente fábrica

InP Wafer epitaxial láser Wafer de fosfuro de indio DFB/EML Wafer expitaxial para detección inteligente

Wafer epitaxial de 2 pulgadas de fosfuro de indio semi-aislante para el diodo láser LD, wafer epitaxial semiconductor, wafer InP de 3 pulgadas, wafer de cristal único 2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas de ... Leer más
2024-09-10 15:33:01
Porcelana InAs Wafer Doped Zn 2 pulgadas Wafer de arseniuro de indio Dia 50mm espesor 500um &lt;100&gt; personalizado fábrica

InAs Wafer Doped Zn 2 pulgadas Wafer de arseniuro de indio Dia 50mm espesor 500um <100> personalizado

2 pulgadas de wafer de arseniuro de indio InAs epitaxial wafer para diodo láser LD, semiconductor epitaxial wafer, 3 pulgadas de wafer InAs-Zn,Substrato InAs de cristal único de 2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas ... Leer más
2024-09-10 15:33:00
Porcelana Wafer DFB N-InP sustrato epiwafer capa activa InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pulgadas para el sensor de gas fábrica

Wafer DFB N-InP sustrato epiwafer capa activa InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pulgadas para el sensor de gas

Wafer DFB N-InP sustrato epiwafer capa activa InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pulgadas para el sensor de gas Resumen de la oblea DFB para el substrato N-InP de la epioblea Una oblea de retroalimentación distribuida (DFB... Leer más
2024-09-10 15:33:00
Porcelana DFB Epiwafer InP Substrato Método MOCVD 2 4 6 pulgadas longitud de onda de operación 1,3 μm, 1,55 μm fábrica

DFB Epiwafer InP Substrato Método MOCVD 2 4 6 pulgadas longitud de onda de operación 1,3 μm, 1,55 μm

DFB Epiwafer InP sustrato método MOCVD 2 4 6 pulgadas longitud de onda de funcionamiento: 1,3 μm, 1,55 μm El substrato de DFB Epiwafer InP es el resumen Los Epiwafers en sustratos de fosfuro de indio (InP) son ... Leer más
2024-09-10 15:33:00
Porcelana FP Epiwafer InP capa de contacto del sustrato InGaAsP Dia 2 3 4 pulgadas para la banda de longitud de onda OCT 1.3um fábrica

FP Epiwafer InP capa de contacto del sustrato InGaAsP Dia 2 3 4 pulgadas para la banda de longitud de onda OCT 1.3um

FP epiwafer InP capa de contacto del sustrato InGaAsP Dia 2 3 4 pulgadas para banda de longitud de onda OCT 1.3um FP epiwafer resumen del sustrato InP Las epiwafers Fabry-Perot (FP) en sustratos de fosfuro de ... Leer más
2024-09-10 15:33:00
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