Detalles del producto
Lugar de origen: China.
Nombre de la marca: ZMSH
Model Number: InAs wafer
Condiciones de pago y envío
Delivery Time: 2-4 weeks
Payment Terms: T/T
El material: |
Arsenuro de indio |
Tamaño: |
2 pulgadas |
El grosor: |
500 mm ± 25 mm |
orientación: |
El valor de las emisiones de CO2 |
Destino: |
5.67 g/cm |
personalizado: |
Apoyados |
El material: |
Arsenuro de indio |
Tamaño: |
2 pulgadas |
El grosor: |
500 mm ± 25 mm |
orientación: |
El valor de las emisiones de CO2 |
Destino: |
5.67 g/cm |
personalizado: |
Apoyados |
2 pulgadas de wafer de arseniuro de indio InAs epitaxial wafer para diodo láser LD, semiconductor epitaxial wafer, 3 pulgadas de wafer InAs-Zn,Substrato InAs de cristal único de 2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas para aplicación LD, oblea semiconductora, oblea epitaxial con láser de arseniuro de indio
Características de la oblea InAs-Zn
- utilizar las obleas INA para la fabricación de
- apoyar las personalizadas con diseño de ilustraciones
- bandgap directo, emite luz de manera eficiente, utilizado en láseres.
- en el rango de longitudes de onda de 1,5 μm a 5,6 μm, estructuras de pozos cuánticos
- utilizando técnicas como MOCVD o MBE, grabado, metalización y embalaje para lograr la forma final del dispositivo
Descripción de laEn el caso de los productos de la categoría N2Ofras
El arseniuro de indio (InAs) es un material semiconductor importante que se utiliza ampliamente en campos como detectores infrarrojos y láseres debido a su estrecho intervalo de banda (alrededor de 0,354 eV).
InAs suele existir en forma de un sistema de cristal cúbico, y su alta movilidad de electrones hace que funcione bien en dispositivos electrónicos de alta velocidad.
Las obleas de InAs de alta calidad se pueden cultivar mediante técnicas como la epitaxia de haz molecular (MBE) o la deposición de vapor químico orgánico metálico (MOCVD),que puede utilizarse para fabricar detectores de infrarrojos eficientes, especialmente en las bandas de 3-5 μm y 8-12 μm.
Además, la estructura de InAs dopada con zinc (Zn) puede ajustar su conductividad para formar semiconductores de tipo p o n, optimizando así sus propiedades eléctricas.
El desarrollo de los pozos cuánticos y las estructuras de puntos cuánticos ha mejorado aún más el potencial de aplicación de los INAs en el campo optoelectrónico.
La tecnología de puntos cuánticos permite a los AIN desempeñar un papel importante en campos emergentes como la computación cuántica y la bioimagen.
Con la creciente demanda de dispositivos infrarrojos de alto rendimiento y tecnologías cuánticas, las perspectivas de investigación y aplicación de los AIN y sus materiales dopados son amplias.
Detalles de lasEn el caso de los productos de la categoría N2Ofras
Parámetro | InAs-ZnWafer |
Composición del material | Arsénico de indio (InAs) + dopado de zinc |
Estructura de cristal | Sistema cúbico (estructura de mezcla de zinc) |
Ancho de banda | ~ 0,354 eV |
Movilidad de los electrones | ~ 30.000 cm2/V·s |
Movilidad de los agujeros | ~ 200 cm2/V·s |
densidad | ~ 5,67 g/cm3 |
Punto de fusión | - 942 °C |
Conductividad térmica | - 0,5 W/m·K |
Diferencia de banda óptica | ~ 0,354 eV |
Método de dopaje | Dopaje de tipo P (a través del zinc) |
Áreas de aplicación | Lasers infrarrojos, detectores, puntos cuánticos |
Tamaño | Diámetro de 2 pulgadas |
El grosor | 500 mm ± 25 mm |
Orientación | El valor de las emisiones de CO2 |
Muestras deEn el caso de los productos de la categoría N2Ofras'
* Siéntase libre de contactarnos si tiene los requisitos personalizados.
Sobre nosotros
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Preguntas frecuentes
1P: ¿Qué tal el costo de las obleas InAs-Zn en comparación con otras obleas?
R: Las obleas InAs-Zn suelen ser más caras que las obleas de silicio y GaAs debido a la escasez de materiales, los procesos de fabricación complejos y la demanda especializada del mercado.
2P: ¿Qué hay de las perspectivas futuras de InAs-Zn?Oferta?
R: Las perspectivas futuras de las obleas INA son bastante prometedoras.