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Wafer de carburo de silicio SiC 4H-N 2"3"4"6"8"12" N Tipo Prime / Dummy / grado de investigación

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: zmsh

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Resaltar:

Wafer de carburo de silicio falso

,

Wafer de carburo de silicio primario

,

Wafer de carburo de silicio 4H-N

El material:
SIC cristalino
Tipo de producto:
No
El tamaño:
2/3/4/6/8/12
El grosor:
500 mm±50 mm
Orientaciones:
4.0 grados fuera del eje + 0,5 grados hacia <11-20>
La rugosidad de la superficie (cara de carbono):
Ra < 0,5 nm con cara de carbono preparada para la epi
Resistencia:
< 0,25 ohm.cm
Roughness de la superficie (cara de silicio):
Opticamente pulido
TTV:
<10um>
- ¿ Por qué?:
<30um>
abrigo:
<30um>
El material:
SIC cristalino
Tipo de producto:
No
El tamaño:
2/3/4/6/8/12
El grosor:
500 mm±50 mm
Orientaciones:
4.0 grados fuera del eje + 0,5 grados hacia <11-20>
La rugosidad de la superficie (cara de carbono):
Ra < 0,5 nm con cara de carbono preparada para la epi
Resistencia:
< 0,25 ohm.cm
Roughness de la superficie (cara de silicio):
Opticamente pulido
TTV:
<10um>
- ¿ Por qué?:
<30um>
abrigo:
<30um>
Wafer de carburo de silicio SiC 4H-N 2"3"4"6"8"12" N Tipo Prime / Dummy / grado de investigación

 

Substrato de carburo de silicio (SiC) de 4H-N 2/3/4/6/8/12 pulgadas


Esta serie de productos proporciona sustratos de carburo de silicio (SiC) de alta pureza en múltiples diámetros (2", 3", 4", 6", 8" y 12"), diseñados para semiconductores avanzados, electrónica de potencia,y aplicaciones optoelectrónicasDisponibles en grados Prime (de calidad de dispositivo), Dummy (de prueba de proceso) y Research (experimental), estos sustratos presentan una excelente conductividad térmica (> 400 W/m·K para SiC), un alto voltaje de ruptura y una alta resistencia a la presión.,y una estabilidad química superior.

El grado Prime asegura una densidad de defectos muy baja, lo que lo hace ideal para dispositivos de alto rendimiento como MOSFET, diodos Schottky y componentes de RF.El Dummy Grade ofrece soluciones rentables para la optimización de procesos, mientras que el grado de investigación apoya la I+D académica e industrial en tecnologías de semiconductores de banda ancha.

Con especificaciones personalizables (dopaje, grosor, pulido), estos sustratos cumplen con las exigencias estrictas de la electrónica de potencia, las comunicaciones 5G y las aplicaciones de vehículos eléctricos (VE).

 

Wafer de carburo de silicio SiC 4H-N 2"3"4"6"8"12" N Tipo Prime / Dummy / grado de investigación 0

 


 

Cuadro de especificaciones

 

 

Propiedades Especificaciones
El material 4H SiC
Envasado Envase de una sola oblea
El tipo Tipo N
Diámetro Se aplicarán las siguientes medidas:
El grosor 500 μm ± 50 μm
La rugosidad de la superficie (cara de carbono) Ra ≤ 0,5 nm con cara de carbono preparada para epi
Roughness de la superficie (cara de silicio) Opticamente pulido
Orientaciones 4.0 grados fuera del eje ± 0,5 grados hacia <11-20>
MPD (Departamento de Protección del Medio Ambiente) ≤ 0,5/cm2 o menos
TTV/BOW/Warp El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero.
FWHM ≤ 30 arcosegundos o menos
Apartamento primario y secundario No se requiere (no hay molienda plana)
Resistencia < 0,25 ohm.cm

 


 

Aplicaciones de las obleas de SiC

 

Nuestros sustratos 4H-N están diseñados para tecnologías de vanguardia en múltiples industrias:

 

1. Energía electrónica
- Vehículos eléctricos (VE): MOSFET SiC de alto voltaje e inversores para una conversión eficiente de energía.
- Sistemas de carga rápida: permite cargadores compactos y de alta eficiencia para vehículos eléctricos y electrónica de consumo.

- Motor de accionamiento industrial: rendimiento robusto en ambientes de alta temperatura.

 

2Comunicación radio y inalámbrica
- Estaciones base 5G: transistores de alta frecuencia con baja pérdida de señal.
- Sistemas de radar y satélites: mejor manejo de la energía para aplicaciones aeroespaciales y de defensa.

 

3. Optoelectrónica
- LED UV y láseres: gestión térmica superior para aplicaciones de alta luminosidad.

 

4Tecnologías de investigación
- Investigación de semiconductores de banda ancha: estudios fundamentales sobre las propiedades de los materiales.

 

 

Wafer de carburo de silicio SiC 4H-N 2"3"4"6"8"12" N Tipo Prime / Dummy / grado de investigación 1Wafer de carburo de silicio SiC 4H-N 2"3"4"6"8"12" N Tipo Prime / Dummy / grado de investigación 2

 


 

Preguntas frecuentes (FAQ)

 

1¿Se pueden personalizar estos sustratos en términos de dopado y grosor?

Sí, ofrecemos variantes tipo N (dopado con nitrógeno) y tipo P (dopado con aluminio) con resistencia ajustable.

 

2- ¿Cuál es el tiempo de entrega para los pedidos?

- Tamaños estándar (2"-6"): 2-4 semanas.
- Tamaños grandes (8"-12"): de 4 a 6 semanas (según disponibilidad).

 

3¿Cómo deben almacenarse y manipularse los sustratos?

- Conservar en un cuarto limpio (clase 1000 o superior).
- Manejar con guantes de nitrilo para evitar la contaminación.
- Evite el esfuerzo mecánico en los bordes.