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Detalles de los productos

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Sic substrato
Created with Pixso. Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar

Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar

Nombre De La Marca: ZMSH
Número De Modelo: 4H-P SiC
MOQ: 10 por ciento
Precio: by case
Tiempo De Entrega: en 30days
Condiciones De Pago: T/T
Información detallada
Lugar de origen:
China.
Certificación:
rohs
Dureza de la superficie:
HV0.3>2500
Densidad:
3.21 G/cm3
Coeficiente de expansión térmica:
4,5 X 10-6/K
Constante dieléctrica:
9,7
Resistencia a la tracción:
>400MPa
tamaño:
6 pulgadas
Tensión de ruptura:
5,5 milivoltios/cm
Aplicaciones:
Electrónica de potencia, láseres
Detalles de empaquetado:
caja de plástico personalizada
Capacidad de la fuente:
1000pc/month
Resaltar:

Substrato de carburo de silicio de 150 mm Sic

,

4H-P Sic Substrato de carburo de silicio

,

Substrato de carburo de silicio de 350 μm Sic

Descripción de producto

Descripción del producto:

Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas Sic 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar

El carburo de silicio 4H-P (SiC) es un material semiconductor importante comúnmente utilizado en dispositivos electrónicos de alta temperatura, alta frecuencia y alta potencia.El 4H-SiC es un tipo de estructura cristalina que tiene una estructura de red hexagonalEl amplio intervalo de banda (aproximadamente 3,26 eV) le permite funcionar en ambientes de alta temperatura y alto voltaje.puede guiar y disipar el calor de manera efectivaEl carburo de silicio dopado tipo P tiene una baja resistividad y es adecuado para la construcción de uniones PN.Se espera que la demanda de carburo de silicio tipo 4H-P siga creciendo, impulsando la investigación y los avances tecnológicos relacionados.

 

Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar 0Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar 1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


Características:

· Tipo: el cristal 4H-SiC tiene una estructura de red hexagonal y proporciona excelentes características eléctricas.

· Amplia banda: aproximadamente 3,26 eV para aplicaciones de alta temperatura y alta frecuencia.

· Dopaje tipo P: la conductividad tipo P se obtiene mediante elementos de dopaje como el aluminio, aumentando la concentración del conductor poroso.

· Resistividad: baja resistividad, adecuada para dispositivos de alta potencia.

· Alta conductividad térmica: aprox. 4,9 W/m·K, disipación de calor eficaz, adecuada para aplicaciones de alta densidad de potencia.

· Resistencia a altas temperaturas: puede funcionar de forma estable en un entorno de altas temperaturas.

· Alta dureza: muy alta resistencia mecánica y dureza para condiciones adversas.

· Alta tensión de ruptura: capaz de soportar tensiones más altas y reducir el tamaño del dispositivo.

· Baja pérdida de conmutación: Buenas características de conmutación en operaciones de alta frecuencia para mejorar la eficiencia.
· Resistencia a la corrosión: buena resistencia a la corrosión de una amplia gama de productos químicos.

· Amplia gama de aplicaciones: adecuado para vehículos eléctricos, inversores, amplificadores de alta potencia y otros campos.

 

Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar 2Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar 3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


Parámetros técnicos:

 

Especificación del sustrato de carburo de silicio (SiC) de 6 pulgadas de diámetro
Grado Producción de MPD cero
Grado (grado Z)
Producción estándar
Grado (grado P)
Grado de imitación
(Grado D)
Diámetro 145.5 mm ~ 150,0 mm
El grosor Se aplicarán las siguientes medidas:
Orientación de la oblea Fuera del eje: 2,0°-4,0° hacia [1120] ± 0,5° para 4H/6H-P, En el eje: 1111 ± 0,5° para 3C-N
Densidad de los microtubos 0 cm-2
Resistencia el tipo p 4H/6H-P ≤ 0,1 Ω.cm ≤ 0,3 Ω.cm
Orientación plana primaria el tipo p 4H/6H-P {1010} ± 5,0°
Duración plana primaria 32.5 mm ± 2,0 mm
Duración plana secundaria 18.0 mm ± 2,0 mm
Orientación plana secundaria Silicón hacia arriba: 90° CW. desde el plano Prime ± 5,0°
Exclusión del borde 3 mm 6 mm
El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero. Se aplicarán las siguientes medidas: Se aplicarán las siguientes medidas:
La rugosidad Polish Ra≤1 nm
CMP Ra≤0,2 nm Ra ≤ 0,5 nm
Las grietas de borde por la luz de alta intensidad No hay Duración acumulada ≤ 10 mm, longitud única ≤ 2 mm
Placas hexagonales con luz de alta intensidad Área acumulada ≤ 0,05% Área acumulada ≤ 0,1%
Áreas de politipo por luz de alta intensidad No hay Área acumulada ≤ 3%
Inclusiones de carbono visual Área acumulada ≤ 0,05% Área acumulada ≤ 3%
La superficie del silicio se araña con luz de alta intensidad No hay Duración acumulada ≤ 1 × diámetro de la oblea
Chips de borde de alta intensidad de luz Ninguno ≥ 0,2 mm de ancho y profundidad 5 permitidos, ≤ 1 mm cada uno
Contaminación de la superficie del silicio por alta intensidad No hay
Embalaje Contenedor de una sola o varias obleas

 


Aplicaciones:

 

1Electrónica de potencia
Convertidores de potencia: para adaptadores de potencia eficientes e inversores de menor tamaño y mayor eficiencia energética.
Vehículos eléctricos: optimizar la eficiencia de conversión de potencia en los módulos de accionamiento y las estaciones de carga de vehículos eléctricos.

2. Dispositivos de RF
Amplificadores de microondas: Se utilizan en sistemas de comunicación y radar para proporcionar un rendimiento confiable de alta frecuencia.
Comunicaciones por satélite: amplificador de alta potencia para satélites de comunicación.

3Aplicaciones a altas temperaturas
Sensor: Sensor utilizado en entornos de temperaturas extremas, capaz de funcionar de forma estable.
Equipo industrial: equipo e instrumentos adaptados a condiciones de alta temperatura.

4. Optoelectrónica
Tecnología LED: se utiliza para mejorar la eficiencia luminosa en LEDs específicos de longitud de onda corta.
Lasers: aplicaciones láser eficientes.

5Sistema de energía.
Red inteligente: Mejorar la eficiencia energética y la estabilidad en la transmisión y gestión de la red de corriente continua de alto voltaje (HVDC).

6Electrónica de consumo
Dispositivo de carga rápida: Un cargador portátil para dispositivos electrónicos que mejora la eficiencia de carga.

7Energía renovable
Inversor solar: lograr una mayor eficiencia de conversión de energía en los sistemas fotovoltaicos.

 
Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar 4
 

 

Personalización:

 

Nuestro sustrato SiC está disponible en el tipo 4H-P y está certificado RoHS. La cantidad mínima de pedido es de 10pc y el precio es por caso. Los detalles de embalaje son cajas de plástico personalizadas.El tiempo de entrega es dentro de 30 días y aceptamos T / T términos de pagoNuestra capacidad de suministro es de 1000pcs/mes. El tamaño del sustrato de SiC es de 6 pulgadas.


 
Substrato de carburo de silicio de 6 pulgadas 4H-P Diámetro 150 mm espesor 350 μm Producción de MPD cero, grado de producción estándar 5


Preguntas frecuentes:

 

1P: ¿Ofrece servicio personalizado para el sustrato SIC tipo 4H-P?

R: Sí, nuestra empresa proporciona servicio personalizado para el sustrato de carburo de silicio tipo 4H-P. Los clientes pueden elegir sustratos con diferentes especificaciones y parámetros, como diámetro, grosor,concentración de dopaje, etc., de acuerdo con sus necesidades específicas para satisfacer los requisitos de aplicaciones específicas.

 

2P: ¿Cómo se asegura la calidad del sustrato de carburo de silicio tipo 4H-P?

R: Nuestra empresa asegura la calidad del sustrato de carburo de silicio tipo 4H-P a través de un estricto control de procesos e inspección de calidad.corte y pulido hasta la inspección final, cada paso sigue estándares elevados y requisitos estrictos para garantizar que los productos cumplan con las expectativas de los clientes y las normas de la industria.

 

 

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