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6H-P Substrato SiC de carburo de silicio 6 pulgadas SIC Wafer 4H-P para dispositivos optoelectrónicos

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: ZMSH

Número de modelo: Sustrato de SiC

Condiciones de pago y envío

Tiempo de entrega: Entre 4 y 6 semanas

Condiciones de pago: T/T

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Resaltar:

6 pulgadas de carburo de silicio SiC Substrato

,

Substrato de carburo de silicio SiC 6H-P

,

Substrato de carburo de silicio 4H-P

El material:
monocristal de SiC
El tipo:
4H-P / 6H-P
Tamaño:
4 pulgadas
Grado:
Primero/Dummy
personalizado:
Apoyados
Color:
Negro
El material:
monocristal de SiC
El tipo:
4H-P / 6H-P
Tamaño:
4 pulgadas
Grado:
Primero/Dummy
personalizado:
Apoyados
Color:
Negro
6H-P Substrato SiC de carburo de silicio 6 pulgadas SIC Wafer 4H-P para dispositivos optoelectrónicos

Se trata de un producto que se utiliza para la fabricación de productos de la categoría de los que se trata en el presente Reglamento.8 pulgadas de SiC, 12 pulgadas SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI


Sobre el sustrato SiC de tipo P

- apoyar las personalizadas con diseño de ilustraciones

- un cristal hexagonal (4H SiC), hecho de monocristal SiC

- alta dureza, la dureza de Mohs alcanza 9.2, sólo superado por el diamante.

- excelente conductividad térmica, adecuada para ambientes de alta temperatura.

- características de banda ancha, adecuadas para dispositivos electrónicos de alta frecuencia y alta potencia.


Descripción del sustrato SiC de tipo P

6H-P SiC (carburo de silicio policristalino hexagonal) es un material semiconductor importante, que se utiliza ampliamente en alta temperatura,dispositivos electrónicos de alta frecuencia y alta potencia debido a su excelente estabilidad térmica y propiedades eléctricasSu estructura cristalina hexagonal única permite que el 6H-P SiC mantenga una buena conductividad y resistencia mecánica en condiciones extremas.una tensión de ruptura alta y una excelente conductividad térmica,, por lo que muestra un gran potencial de aplicación en dispositivos electrónicos de potencia, células solares y LED.

En comparación con el SiC de tipo N, el SiC 6H-P tiene diferencias obvias en el tipo de dopaje y el mecanismo de conductividad.El SiC de tipo N aumenta su conductividad añadiendo donantes de electrones (como nitrógeno o fósforo) para aumentar la concentración del portadorPor el contrario, el tipo de portador y la concentración de 6H-P SiC dependen de la selección y distribución de sus elementos dopantes.que hace que funcione bien en aplicaciones de alta frecuencia, mientras que el 6H-P SiC puede mantener la estabilidad en ambientes de alta temperatura y alta potencia debido a sus características estructurales,que lo hace adecuado para aplicaciones tales como electrónica de potencia y sensores de alta temperatura.

El proceso de producción de 6H-P SiC es relativamente maduro, y se prepara principalmente por deposición química de vapor (CVD) y crecimiento de fusión.Debido a su excelente resistencia mecánica y resistencia a la corrosiónEl 6H-P SiC se considera una opción ideal para reemplazar los materiales tradicionales de silicio, especialmente para aplicaciones en ambientes hostiles.

Con la creciente demanda de dispositivos de alta eficiencia, la investigación y el desarrollo de 6H-P SiC avanza constantemente, y se espera que desempeñe un papel más importante en los vehículos de nueva energía, las redes inteligentes,En la actualidad, la tecnología de la radiofrecuencia es una de las más importantes herramientas de radiofrecuencia en el mundo.


Detalles del sustrato SiC de tipo P

Propiedad

Tipo P 4H-SiC, cristal único Tipo P 6H-SiC, cristal único
Parámetros de la red a=3,082 Å c=10,092 Å

a=3,09 Å

C=15,084 Å

Secuencia de apilamiento El ABCB Acceso a las oficinas
Dureza de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densidad 3.23 g/cm3 3.0 g/cm3
Coeficiente de expansión térmica 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)
Indice de refracción @750nm no = 2,621 ne = 2.671 no=2.612 y ne=2.651
Constante dieléctrico C ~ 9.66 C ~ 9.66

Conductividad térmica

3 a 5 W/cm·K@298K

3 a 5 W/cm·K@298K

La banda-brecha 3.26 eV 3.02 eV
Campo eléctrico de ruptura 2-5×106V/cm 2-5×106V/cm

Velocidad de deriva de saturación

2.0 × 105 m/s 2.0 × 105 m/s


Muestras de sustrato SiC de tipo P

6H-P Substrato SiC de carburo de silicio 6 pulgadas SIC Wafer 4H-P para dispositivos optoelectrónicos 06H-P Substrato SiC de carburo de silicio 6 pulgadas SIC Wafer 4H-P para dispositivos optoelectrónicos 1

6H-P Substrato SiC de carburo de silicio 6 pulgadas SIC Wafer 4H-P para dispositivos optoelectrónicos 2


Sobre nosotros
Nuestra empresa, ZMSH, se especializa en la investigación, producción, procesamiento y ventas de sustratos de semiconductores y materiales ópticos de cristal.
Tenemos un equipo de ingeniería experimentado, experiencia en gestión, equipo de procesamiento de precisión e instrumentos de prueba,que nos proporciona capacidades extremadamente fuertes en el procesamiento de productos no estándar.
Podemos investigar, desarrollar y diseñar varios productos nuevos de acuerdo con las necesidades del cliente.
La empresa se adherirá al principio de "centrada en el cliente, basada en la calidad" y se esforzará por convertirse en una empresa de alta tecnología de primer nivel en el campo de los materiales optoelectrónicos.

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Preguntas frecuentes

1P: Comparado con el N-Type, ¿qué tal el P-Type?

R: Los sustratos P-Tipo 4H-SiC, dotados con elementos trivalentes como el aluminio, tienen agujeros como los principales portadores, proporcionando una buena conductividad y estabilidad a altas temperaturas.Substratos del tipo N, dopados con elementos pentavalentes como el fósforo, tienen electrones como portadores mayoritarios, lo que generalmente resulta en una mayor movilidad de electrones y una menor resistividad.

2P: ¿Cuáles son las perspectivas del mercado para el SiC tipo P?
R: Las perspectivas del mercado para el SiC tipo P son muy positivas, impulsadas por la creciente demanda de electrónica de alta potencia en vehículos eléctricos, sistemas de energía renovable,y aplicaciones industriales avanzadas.

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