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4H-P Carburo de silicio SiC sustrato 4 pulgadas SIC Wafer 6H-P para deposición de nitruro III-V

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: ZMSH

Número de modelo: Sustrato de SiC

Condiciones de pago y envío

Tiempo de entrega: Entre 4 y 6 semanas

Condiciones de pago: T/T

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Resaltar:

4 pulgadas de carburo de silicio SiC Substrato

,

4H-P carburo de silicio SiC Substrato

El material:
monocristal de SiC
El tipo:
4H-P / 6H-P
Tamaño:
4 pulgadas
Grado:
Primero/Dummy
personalizado:
Apoyados
Color:
Negro
El material:
monocristal de SiC
El tipo:
4H-P / 6H-P
Tamaño:
4 pulgadas
Grado:
Primero/Dummy
personalizado:
Apoyados
Color:
Negro
4H-P Carburo de silicio SiC sustrato 4 pulgadas SIC Wafer 6H-P para deposición de nitruro III-V

Se trata de un producto que se utiliza para la fabricación de productos de la categoría de los que se trata en el presente Reglamento.8 pulgadas de SiC, 12 pulgadas SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI


Sobre el sustrato SiC de tipo P

- apoyar las personalizadas con diseño de ilustraciones

- un cristal hexagonal (4H SiC), hecho de monocristal SiC

- alta dureza, la dureza de Mohs alcanza 9.2, sólo superado por el diamante.

- excelente conductividad térmica, adecuada para ambientes de alta temperatura.

- características de banda ancha, adecuadas para dispositivos electrónicos de alta frecuencia y alta potencia.


Descripción del sustrato SiC de tipo P

El sustrato de SiC tipo P es un material semiconductor importante ampliamente utilizado en dispositivos electrónicos de alta potencia y alta frecuencia.el sustrato SiC de tipo P forma características de tipo P, lo que permite que el material proporcione una buena conductividad eléctrica y una alta concentración de portadores.Su excelente conductividad térmica y su alto voltaje de ruptura le permiten mantener un rendimiento estable en condiciones extremas.


El sustrato SiC de tipo P tiene una excelente estabilidad a altas temperaturas y resistencia a la radiación y puede funcionar normalmente en entornos de alta temperatura.Los sustratos de 4H-SiC muestran una menor pérdida de energía bajo campos eléctricos fuertes y son adecuados para su uso en vehículos eléctricosAdemás, la excelente conductividad térmica ayuda a mejorar la eficiencia de disipación de calor del dispositivo y a extender su vida útil.


Los sustratos de SiC de tipo P se utilizan ampliamente en dispositivos de energía, dispositivos de RF y dispositivos optoelectrónicos.

A menudo se utilizan para fabricar dispositivos como MOSFETs y IGBTs de tipo P para satisfacer las necesidades de alto voltaje, alta temperatura y alta frecuencia.Los sustratos de SiC de tipo 4H-P desempeñarán un papel cada vez más importante en la electrónica de potencia y las redes inteligentes futuras.


Detalles del sustrato SiC de tipo P

Propiedad

Tipo P 4H-SiC, cristal único Tipo P 6H-SiC, cristal único
Parámetros de la red a=3,082 Å c=10,092 Å

a=3,09 Å

C=15,084 Å

Secuencia de apilamiento El ABCB Acceso a las oficinas
Dureza de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densidad 3.23 g/cm3 3.0 g/cm3
Coeficiente de expansión térmica 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)
Indice de refracción @750nm no = 2,621 ne = 2.671 no=2.612 y ne=2.651
Constante dieléctrico C ~ 9.66 C ~ 9.66

Conductividad térmica

3 a 5 W/cm·K@298K

3 a 5 W/cm·K@298K

La banda-brecha 3.26 eV 3.02 eV
Campo eléctrico de ruptura 2-5×106V/cm 2-5×106V/cm

Velocidad de deriva de saturación

2.0 × 105 m/s 2.0 × 105 m/s


Muestras de sustrato SiC de tipo P

4H-P Carburo de silicio SiC sustrato 4 pulgadas SIC Wafer 6H-P para deposición de nitruro III-V 04H-P Carburo de silicio SiC sustrato 4 pulgadas SIC Wafer 6H-P para deposición de nitruro III-V 1

4H-P Carburo de silicio SiC sustrato 4 pulgadas SIC Wafer 6H-P para deposición de nitruro III-V 2


Sobre nosotros
Nuestra empresa, ZMSH, se especializa en la investigación, producción, procesamiento y ventas de sustratos de semiconductores y materiales ópticos de cristal.
Tenemos un equipo de ingeniería experimentado, experiencia en gestión, equipo de procesamiento de precisión e instrumentos de prueba,que nos proporciona capacidades extremadamente fuertes en el procesamiento de productos no estándar.
Podemos investigar, desarrollar y diseñar varios productos nuevos de acuerdo con las necesidades del cliente.
La empresa se adherirá al principio de "centrada en el cliente, basada en la calidad" y se esforzará por convertirse en una empresa de alta tecnología de primer nivel en el campo de los materiales optoelectrónicos.

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Preguntas frecuentes

1P: Comparado con el N-Type, ¿qué tal el P-Type?

R: Los sustratos P-Tipo 4H-SiC, dotados con elementos trivalentes como el aluminio, tienen agujeros como los principales portadores, proporcionando una buena conductividad y estabilidad a altas temperaturas.Substratos del tipo N, dopados con elementos pentavalentes como el fósforo, tienen electrones como portadores mayoritarios, lo que generalmente resulta en una mayor movilidad de electrones y una menor resistividad.

2P: ¿Cuáles son las perspectivas del mercado para el SiC tipo P?
R: Las perspectivas del mercado para el SiC tipo P son muy positivas, impulsadas por la creciente demanda de electrónica de alta potencia en vehículos eléctricos, sistemas de energía renovable,y aplicaciones industriales avanzadas.

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