Detalles del producto
Lugar de origen: China.
Nombre de la marca: ZMSH
Número de modelo: Sustrato de SiC
Condiciones de pago y envío
Tiempo de entrega: Entre 2 y 4 semanas
Condiciones de pago: T/T
El material: |
monocristal de SiC |
Grado: |
Primero / Dummy |
orientación: |
Se trata de: |
El tipo: |
4H-semi |
Es el día.: |
10 mm |
El grosor: |
5 mm |
El material: |
monocristal de SiC |
Grado: |
Primero / Dummy |
orientación: |
Se trata de: |
El tipo: |
4H-semi |
Es el día.: |
10 mm |
El grosor: |
5 mm |
- apoyar las personalizadas con diseño de ilustraciones
- un cristal hexagonal (4H SiC), hecho de monocristal SiC
- Alta dureza, hasta 9.2 Mohs, sólo superada por el diamante.
- excelente conductividad térmica, adecuada para ambientes de alta temperatura.
- características de banda ancha, adecuadas para dispositivos electrónicos de alta frecuencia y alta potencia.
Descripción del SiC 4H-SEMI
Las obleas 4H-Semi SiC se refieren a las obleas de carburo de silicio (SiC) 4H-Semi aislante.
Tales obleas generalmente se fabrican cortando y procesando cristales de 4H-SiC de alta pureza.
El 4H-SiC es un cristal de SiC con una estructura cristalina específica, en la que los átomos de silicio (Si) y átomos de carbono (C) están dispuestos de una manera específica para formar una estructura de red.
Las obleas 4H-SiC han atraído mucha atención debido a su importancia en la industria de semiconductores.
El 4H-SiC tiene una amplia gama de aplicaciones en electrónica de potencia, dispositivos de RF y microondas, dispositivos optoelectrónicos y aplicaciones de alta temperatura y alta presión.
Las obleas de 4H-SiC semi-aislantes generalmente exhiben bajas concentraciones de portadores y altas propiedades aislantes, y son adecuadas para muchas aplicaciones de alta potencia, alta frecuencia y alta temperatura.
Estas obleas 4H-Semi SiC se utilizan a menudo para fabricar varios tipos de dispositivos, como MOSFET de potencia, diodos de potencia, amplificadores de potencia de RF, sensores fotoeléctricos, etc.
Su excelente rendimiento, resistencia al alto voltaje, alta conductividad térmica,y estabilidad a altas temperaturas y altas presiones hacen que estas obleas jueguen un papel clave en diversas aplicaciones industriales y de investigación científica.
Detalles del 4H-SiC
Cada tipo de oblea de SiC tiene sus propios detalles físicos.
Propiedad del sustrato | Grado de producción | Grado de imitación |
Diámetro | 10 mm | |
Orientación de la superficie | en el eje: {0001} ± 0,2° para el tipo SEMI; | |
fuera del eje: 4° hacia <11-20> ± 0,5° para el tipo N | ||
Orientación plana primaria | La temperatura máxima de la superficie de la cubierta de ensayo será de ± 5 °C. | |
Orientación plana secundaria | 90.0 ̊ CW desde el núcleo primario ± 5.0 ̊, de silicio hacia arriba | |
Duración plana primaria | 16.0 mm ± 1,65 mm | |
Duración plana secundaria | 8.0 mm ± 1,65 mm | |
El borde de la oblea | Las demás | |
Densidad de los microtubos | ≤ 5 micropipes/cm2 | ≤ 50 micropipes/cm2 |
Áreas de politipo por luz de alta intensidad | Ninguno permitido | Área ≤ 10% |
Resistencia | 0.015 ~ 0.028Ω·cm | (área 75%) |
0.015 ~ 0.028Ω·cm | ||
El grosor | 5 mm | |
TTV | ≤ 10 μm | ≤ 15 μm |
- ¿Qué quieres decir? | ≤ 10 μm | ≤ 15 μm |
La velocidad warp. | ≤ 25 μm | |
Finalización de la superficie | Polvo de doble cara, Si Face CMP (polvar químico) | |
La rugosidad de la superficie | CMP Si Face Ra≤0,5 nm | No incluido |
Las grietas por la luz de alta intensidad | Ninguno permitido | |
Las fichas de borde/indentes por iluminación difusa | Ninguno permitido | Qty.2 < 1,0 mm de ancho y profundidad |
Área total utilizable | ≥ 90% | No incluido |
Nota: Las especificaciones personalizadas distintas de los parámetros anteriores son aceptables. |
* Por favor, no dude en contactarnos si tiene más requisitos personalizados
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Preguntas frecuentes
1P: ¿Cuál es el proceso de fabricación de las cuchillas de corte 4H-Semi SiC?
R: La fabricación de cuchillas de corte de carburo de silicio (SiC) 4H semi-isolante requiere una serie de pasos de proceso complejos, incluido el crecimiento de cristales, el corte, la molienda y el pulido.
2P: ¿Cuáles son las perspectivas futuras de 4H-SEMI SiC?
R: Se ven prometedores debido a sus propiedades únicas y la creciente demanda de materiales semiconductores de alto rendimiento en varias industrias