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2 pulgadas de Sic Substrato 6H-N Tipo de espesor 350um 650um Wafer Sic

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: ZMSH

Model Number: 6H-N SiC

Condiciones de pago y envío

Tiempo de entrega: Entre 2 y 4 semanas

Payment Terms: T/T

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Resaltar:

Substrato de silicona de 650um

,

Substrato de 2 pulgadas de Sic

,

6H-N Sic Substrato

El material:
Monocristales de SiC
El tipo:
6H-N
Tamaño:
2 pulgadas
El grosor:
350 mm o 650 mm
Grado:
Grado P o Grado D
Dureza:
≈ 9.2 (Mohs)
El material:
Monocristales de SiC
El tipo:
6H-N
Tamaño:
2 pulgadas
El grosor:
350 mm o 650 mm
Grado:
Grado P o Grado D
Dureza:
≈ 9.2 (Mohs)
2 pulgadas de Sic Substrato 6H-N Tipo de espesor 350um 650um Wafer Sic

El sustrato monocristalino de carburo de silicio (SiC) de tipo 6H n es un material semiconductor esencial ampliamente utilizado en aplicaciones electrónicas de alta potencia, alta frecuencia y alta temperatura.Conocido por su estructura cristalina hexagonal, el 6H-N SiC ofrece una amplia banda ancha y una alta conductividad térmica, lo que lo hace ideal para entornos exigentes.

El campo eléctrico de alta degradación de este material y la movilidad de los electrones permiten el desarrollo de dispositivos electrónicos de potencia eficientes, como MOSFET y IGBT,que pueden funcionar a voltajes y temperaturas más altos que los fabricados con silicio tradicionalSu excelente conductividad térmica garantiza una disipación de calor eficaz, crítica para mantener el rendimiento y la fiabilidad en aplicaciones de alta potencia.

En aplicaciones de radiofrecuencia (RF), las propiedades del SiC 6H-N apoyan la creación de dispositivos capaces de operar a frecuencias más altas con una mayor eficiencia.Su estabilidad química y su resistencia a la radiación también lo hacen adecuado para su uso en ambientes hostiles, incluidos los sectores aeroespacial y de defensa.

Además, los sustratos de SiC 6H-N son parte integral de los dispositivos optoelectrónicos, como los fotodetectores ultravioleta, donde su amplia banda permite una detección eficiente de la luz UV.La combinación de estas propiedades hace que el SiC de tipo 6H n sea un material versátil e indispensable para avanzar en las tecnologías electrónicas y optoelectrónicas modernas.

2 pulgadas de Sic Substrato 6H-N Tipo de espesor 350um 650um Wafer Sic 0

Wafer de SiCCaracterísticas:

  • Nombre del producto:SecoSubstratocomido
  • Estructura hexagonal: Propiedades electrónicas únicas.
  • Alta movilidad de los electrones: ~ 600 cm2/V·s.
  • Estabilidad química: Resistente a la corrosión.
  • Resistencia a la radiación: Adecuado para ambientes hostiles.
  • Baja concentración intrínseca de portadores: Eficaz a altas temperaturas.
  • Durabilidad: Fuertes propiedades mecánicas.
  • Capacidad optoelectrónica: Detección eficaz de la luz UV.

Wafer de SiCParámetros técnicos:

Propiedad 4H-SiC, cristal único 6H-SiC, cristal único
Parámetros de la red a=3,076 Å c=10,053 Å a=3.073 Å c=15.117 Å
Secuencia de apilamiento El ABCB El ABCACB
Dureza de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densidad 3.21 g/cm3 3.21 g/cm3
Coeficiente de expansión térmica 4 a 5 × 10 a 6/K 4 a 5 × 10 a 6/K
Indice de refracción @750nm no = 2.61 no = 2.60
n = 2.66 n = 2.65
Constante dieléctrica C ~ 9.66 C ~ 9.66

Conductividad térmica

(tipo N, 0,02 ohm.cm)

a ~ 4,2 W/cm·K@298K
C ~ 3,7 W/cm·K@298K

Conductividad térmica

(Semi-aislante)

a ~ 4,9 W/cm·K@298K a~4,6 W/cm·K@298K
C ~ 3,9 W/cm·K@298K C ~ 3,2 W/cm·K@298K
- ¿ Qué haces? 3.23 eV 3.02 eV
Campo eléctrico de ruptura 3 a 5 × 106 V/cm 3 a 5 × 106 V/cm
Velocidad de deriva de saturación 2.0 × 105 m/s 2.0 × 105 m/s

2 pulgadas de Sic Substrato 6H-N Tipo de espesor 350um 650um Wafer Sic 1

Wafer de SiCAplicaciones:

Los sustratos de SiC (carburo de silicio) se utilizan en varias aplicaciones de alto rendimiento debido a sus propiedades únicas, como alta conductividad térmica, alta resistencia al campo eléctrico y amplia banda.Aquí hay algunas aplicaciones:

  • Electrónica de potencia:

    • MOSFET de alto voltaje
    • Transistores bipolares de puerta aislada (IGBT)
    • Diodos de Schottky
    • Inversores de potencia
  • Dispositivos de alta frecuencia:

    • amplificadores de RF (radio frecuencia)
    • Transistores de microondas
    • Dispositivos de onda milimétrica
  • Electrónica de alta temperatura:

    • Sensores y circuitos para entornos adversos
    • Electrónica aeroespacial
    • Electrónica para automóviles (por ejemplo, unidades de control del motor)
  • Optoelectrónica:

    • Los demás aparatos para la fabricación de la siguiente clase:
    • Diodos emisores de luz (LED)
    • Diodos láser
  • Sistemas de energía renovable:

    • Inversores solares
    • Conversores para aerogeneradores
    • Los demás aparatos para el transporte de gas
  • Industria y Defensa:

    • Sistemas de radar
    • Comunicaciones por satélite
    • Instrumentación del reactor nuclear

Wafer de SiCPersonalización:

Podemos personalizar el tamaño del sustrato SiC para satisfacer sus requisitos específicos. También ofrecemos una oblea SiC 4H-Semi HPSI con un tamaño de 10x10mm o 5x5mm.

El precio está determinado por el caso, y los detalles del embalaje se pueden personalizar a su preferencia.

El tiempo de entrega es de 2-4 semanas. Aceptamos el pago a través de T/T.

Wafer de SiCApoyo y servicios:

Nuestro producto de sustrato de SiC viene con soporte técnico y servicios integrales para garantizar un rendimiento óptimo y la satisfacción del cliente.

Nuestro equipo de expertos está disponible para ayudar con la selección del producto, la instalación y la solución de problemas.

Ofrecemos formación y educación sobre el uso y mantenimiento de nuestros productos para ayudar a nuestros clientes a maximizar su inversión.

Además, proporcionamos actualizaciones y mejoras continuas de productos para garantizar que nuestros clientes siempre tengan acceso a la última tecnología.

Wafer de SiCPreguntas frecuentes:

P: ¿Se pueden utilizar sustratos de SiC 6H-N de 2 pulgadas para todos los tipos de dispositivos semiconductores?

R: Si bien los sustratos de SiC 6H-N de 2 pulgadas son versátiles, son particularmente adecuados para dispositivos de alta potencia y alta frecuencia.

Pueden no ser ideales para todos los tipos de dispositivos semiconductores, especialmente aquellos que no requieren las propiedades únicas del SiC.

P: ¿Cuáles son las dimensiones y especificaciones típicas para un sustrato de SiC 6H-N de 2 pulgadas?

R: Las dimensiones típicas incluyen un diámetro de 2 pulgadas (50,8 mm), un grosor de alrededor de 300-500 micrómetros y requisitos específicos de calidad y planitud de la superficie.

Las especificaciones exactas pueden variar según el fabricante y la aplicación prevista.

P: ¿Cómo maneja y almacena sustratos de SiC 6H-N de 2 pulgadas?

R: Debido a su fragilidad, los sustratos de SiC deben manejarse con cuidado utilizando guantes de sala limpia y herramientas de manejo adecuadas.

Deben almacenarse en un entorno controlado para evitar la contaminación y el daño.

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