Datos del producto:
Pago y Envío Términos:
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Industria: | oblea del semicondutor para el ld o llevada | Aplicación: | el substrato del semiconductor, llevó el microprocesador, ventana de cristal óptica, substratos del |
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tamaño: | Personalizado | Superficie: | CMP/grabado al agua fuerte |
dopado: | Si-dopado | Cuota de producción: | 10 PCS |
Grado: | grado de la investigación/grado simulado | ||
Resaltar: | Substrato del óxido Ga2O3 del galio,Solo substrato de Crystal Ga 2O3,Oblea del nitruro del galio Ga2O3 |
doping del magnesio del substrato de Gao del óxido del galio 001 de 10x15m m
estructura del monoclinal del substrato del óxido del galio de 10x10m m
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Orientación | 100 | 100 | 100 |
Doping | UID | Magnesio | FE |
parámetro eléctrico |
1×1017~3×1018cm-3
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≥1010Ω·cm | ≥1010Ω·cm |
arco segundo
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≤150 | ≤150 | ≤150 |
densidad de dislocación | cm2s <1×105 | cm2s <1×105 | cm2s <1×105 |
SOBRE NUESTRO ZMKJ
Q: ¿Cuál es el MOQ?
(1) para el inventario, el MOQ es 5pcs.
(2) para los productos modificados para requisitos particulares, el MOQ es 10pcs-30pcs.
Q: ¿Usted tiene informe de inspección para el material?
Podemos suministrar el informe de detalle para nuestros productos.
Persona de Contacto: Mr. Wang
Teléfono: +8615801942596