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Substrato de cerámica del catalizador de las obleas DSP de 4H-N 5x5m m sic

Detalles del producto

Lugar de origen: China

Nombre de la marca: zmkj

Número de modelo: pureza elevada 4h-semi sin impurificar

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 10PCS

Precio: 30USD/pcs

Detalles de empaquetado: Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en los casetes de solos envases de la o

Tiempo de entrega: 10-20days

Condiciones de pago: Western Union, T/T

Capacidad de la fuente: 5000pcs/months

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Resaltar:

obleas de 5m m sic

,

De DSP obleas sic

,

Substrato de cerámica del catalizador de DSP

El material:
Cristales de carburo de silicio
Tamaño:
10x10m m
Aplicación:
Las condiciones de producción
Resistencia:
> 1E7 o 0,015 ~ 0,28Ω.cm
El tipo:
4H-N o 4H-SEMI
El grosor:
0.5 mm o 0.35 mm
Superficie:
DSP
orientación:
0° fuera del eje c o 4° fuera del eje c
El material:
Cristales de carburo de silicio
Tamaño:
10x10m m
Aplicación:
Las condiciones de producción
Resistencia:
> 1E7 o 0,015 ~ 0,28Ω.cm
El tipo:
4H-N o 4H-SEMI
El grosor:
0.5 mm o 0.35 mm
Superficie:
DSP
orientación:
0° fuera del eje c o 4° fuera del eje c
Substrato de cerámica del catalizador de las obleas DSP de 4H-N 5x5m m sic

HPSI de alta pureza 4H-SEMI 4H-N 10X10mm 5x5mm obleas sic DSP

Aplicación del carburo de silicio en la industria de dispositivos de potencia

Unidad de rendimiento Silicon Si Silicon Carbide SiC Gallium Nitride GaN
El espacio de banda eV 1.12 3.26 3.41
Descomposición del campo eléctrico MV/cm 0.23 2.2 3.3
Movilidad de los electrones cm^2/Vs 1400 950 1500
Velocidad de deriva 10 a la potencia de 7 cm/s 1 2.72.5
Conductividad térmica W/cmK 1.5 3.8 1.3
Las obleas de SiC (carburo de silicio) de 4H-N 5x5 mm con superficies pulidas de doble cara (DSP) son muy buscadas por sus propiedades avanzadas, particularmente en alta potencia, alta frecuencia,y aplicaciones de alta temperaturaComo sustrato de semiconductores, el 4H-N SiC destaca por su conductividad térmica superior, su alto campo eléctrico de descomposición y su amplio intervalo de banda.lo que lo convierte en un candidato ideal para la electrónica de potencia y los dispositivos de RF (radiofrecuencia)Estas características permiten una conversión de energía más eficiente en vehículos eléctricos, sistemas de energía renovable y tecnologías avanzadas de comunicación como 5G.en sustratos de catalizadores cerámicosLa alta resistencia a la corrosión y la resistencia mecánica del SiC en condiciones extremas ofrecen un entorno óptimo para las reacciones químicas, promoviendo procesos catalíticos energéticamente eficientes.Para industrias como los sistemas de escape de automóvilesLa combinación de la alta estabilidad térmica y la alta eficiencia de los procesos de fabricación de productos químicos y de la tecnología medioambiental contribuyen a reducir las emisiones y a mejorar la eficiencia general de los procesos.durabilidad, y la eficiencia energética subraya su papel fundamental tanto en los avances de los semiconductores como en las aplicaciones catalíticas.

ZMSH ofrece obleas de SiC y Epitaxy: las obleas de SiC son el material semiconductor de banda ancha de tercera generación con un excelente rendimiento.campo eléctrico de alta rupturaLa Wafer SiC también tiene grandes perspectivas de aplicación en el sector aeroespacial, el transporte ferroviario, el transporte de mercancías y el transporte de mercancías.generación de energía fotovoltaicaLa nueva tecnología de la electrónica de potencia, que incluye la tecnología de la transmisión de energía, los vehículos de nueva energía y otros campos, traerá cambios revolucionarios a la tecnología de la electrónica de potencia.cada oblea está en un recipiente de oblea, menos de 100 salón de clases limpio.


Las obleas de SiC preparadas para epi tienen tipo N o semi-aislante, su politipo es 4H o 6H en diferentes grados de calidad, Densidad de micropipos (MPD): libre, <5/cm2, <10/cm2, <30/cm2, <100/cm2,y el tamaño disponible es 2 ′′En el caso del SiC Epitaxy, su uniformidad de espesor de oblea a oblea: 2% y uniformidad de dopado de oblea a oblea: 4%, la concentración de dopado disponible proviene de E15, E16, E18, E18/cm3,Las capas n y p de epi están disponibles., los defectos de epi son inferiores a 20/cm2; todo el sustrato debe utilizarse de grado de producción para el crecimiento de epi; las capas de epi de tipo N < 20 micras están precedidas por una capa tampón de tipo n, E18 cm-3, de 0,5 μm;Las capas de epi de tipo N≥20 micras están precedidas de n-tipo, E18, capa de amortiguador de 1 a 5 μm; el dopaje de tipo N se determina como un valor medio en toda la oblea (17 puntos) utilizando la sonda CV de Hg;El espesor se determina como un valor medio a través de la oblea (9 puntos) utilizando FTIR.

2. tamaño de los sustratos estándar

4 pulgadas de diámetro de carburo de silicio (SiC) especificación del sustrato

Grado Grado de MPD cero Grado de producción Grado de investigación Grado de imitación
Diámetro 76.2 mm±0,3 mm o 100±0,5 mm;
El grosor 500 ± 25 mm
Orientación de la oblea 0° fuera del eje (0001)
Densidad de los microtubos ≤ 1 cm2 ≤ 5 cm2 ≤ 15 cm2 ≤ 50 cm2
Resistencia 4H-N 0.015 ~ 0.028 Ω•cm
6H-N 0.02 ~ 0.1 Ω•cm
4/6H-SI ≥1E7 Ω·cm
Primaria Plano y longitud {10-10} ± 5,0°,32.5 mm±2.0 mm
Duración plana secundaria 18.0 mm±2.0 mm
Orientación plana secundaria Silicón hacia arriba: 90° CW. desde el plano Prime ±5,0°
Exclusión de los bordes 3 mm
TTV/Bow/Warp Se aplicarán las siguientes medidas:
La rugosidad Polish Ra≤1 nm,CMP Ra≤0,5 nm
Las grietas causadas por la luz de alta intensidad No hay 1 permitido, ≤ 2 mm Duración acumulada ≤ 10 mm, longitud única ≤ 2 mm
Placas hexagonales por luz de alta intensidad Área acumulada ≤ 1% Área acumulada ≤ 1% Área acumulada ≤ 3%
Áreas de politipo por luz de alta intensidad No hay Área acumulada ≤ 2% Área acumulada ≤ 5%

También se pueden suministrar wafer y lingotes de 2-6 pulgadas y otros tamaños personalizados.

3.Mostrar los detalles de los productos

Substrato de cerámica del catalizador de las obleas DSP de 4H-N 5x5m m sic 0Substrato de cerámica del catalizador de las obleas DSP de 4H-N 5x5m m sic 1

Substrato de cerámica del catalizador de las obleas DSP de 4H-N 5x5m m sic 2Substrato de cerámica del catalizador de las obleas DSP de 4H-N 5x5m m sic 3

Entrega y paquete

Preguntas frecuentes
  • ¿Es su empresa una fábrica o una empresa comercial?
  • Somos la fábrica y también podemos exportar nosotros mismos.
  • P2. ¿Su empresa sólo trabaja con el negocio de la SIC?
  • Sí; sin embargo no crecemos el cristal de sic por nosotros mismos.
  • ¿Podría suministrar una muestra?
  • Sí, podemos suministrar una muestra de zafiro de acuerdo a los requisitos del cliente.
  • ¿Tiene alguna reserva de obleas sic?
  • Por lo general tenemos algunas obleas de tamaño estándar de 2-6 pulgadas en stock.
  • P5. ¿Dónde se encuentra su empresa?
  • Nuestra empresa está ubicada en Shanghai, China.
  • ¿Cuánto tiempo tardará en obtener los productos?- ¿ Qué?
  • En general, el proceso tardará 3~4 semanas. Depende de la cantidad y el tamaño de los productos.

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