| Nombre De La Marca: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Tiempo De Entrega: | 2-4 semanas |
| Condiciones De Pago: | T/T |
La máquina de unión de SiC es un sistema de alta precisión diseñado para unir obleas, semillas de SiC, papel de grafito y placas de grafito.y presión ajustable, asegurando una unión sin burbujas, uniforme y estable.
Esta máquina es ideal para la fabricación de semiconductores, preparación de semillas de SiC, cerámica a alta temperatura y aplicaciones de investigación o a escala piloto.proceso reproducible para materiales que requieren una alta precisión e integridad.
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Alta precisión de unión: La alineación precisa garantiza una unión uniforme en todo el sustrato.
Enlace libre de burbujas: La adhesión asistida por vacío elimina el aire atrapado y previene los defectos.
Presión ajustable: Garantiza una compresión uniforme para una calidad de unión constante.
Compatibilidad material: Soporta obleas, semillas de SiC, papel de grafito y placas de grafito.
Proceso estable y reproducible: Ideal para la producción en pequeños lotes o a escala piloto.
Funcionamiento fácil de usar: Interfaz sencilla para un fácil control y seguimiento del proceso.
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Mecanismo de alineación del centro: Coloca con precisión las obleas, las semillas de SiC y las placas de grafito.
Enlace asistido por vacío: Elimina las burbujas de aire en la capa adhesiva.
Sistema de presión ajustable: Garantiza una compresión uniforme de la interfaz.
Parámetros de proceso programables: La temperatura, la presión y el tiempo de permanencia se pueden establecer para materiales específicos.
Registro y seguimiento de datos: Registro de los parámetros del proceso para garantizar la calidad.
Diseño compacto y modular: Fácil de integrar en los flujos de trabajo existentes.
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| Parámetro | Especificación | Las notas |
|---|---|---|
| Tamaño máximo del sustrato | ≤ 12 pulgadas | Soporta obleas y sustratos más pequeños |
| Nivel de vacío | ≤ 10−2 Pa | Asegura una unión libre de burbujas |
| Rango de presión | 0 ̊5 MPa | Con una presión de compresión uniforme, regulable |
| Rango de temperatura | Ambiente ¥ 300 °C | Calentamiento opcional para adhesivos específicos |
| Tiempo del ciclo | 5 ̊60 min | Ajustable en función del sustrato y del proceso |
| Fuente de alimentación | El valor de las emisiones de CO2 | Monofase o trifase según la instalación |
| Control de movimiento | Las demás máquinas de la partida 84 | Permite una alineación y unión precisas |
Enlace de semillas de SiC: Enlace de alta precisión de las semillas de SiC a obleas o sustratos.
Otros productos para la fabricación de placas: Enlace de obleas de una sola o varias capas.
Substrato de grafito: Papel o placas de grafito para aplicaciones a altas temperaturas.
Investigación y desarrollo y producción piloto: Enlazado en pequeños lotes o en la investigación.
Materiales de alta temperatura: Enlazamiento de sustratos cerámicos o compuestos.
P1: ¿Qué materiales puede manejar esta máquina de unión?
A1: ¿Qué es esto?Wafers, semillas de SiC, papel de grafito y placas de grafito, incluidos sustratos rígidos y flexibles.
P2: ¿Cómo se logra la unión sin burbujas?
A2: ¿Qué es esto?La unión asistida por vacío elimina el aire atrapado, asegurando una capa de adhesivo libre de defectos.
P3: ¿La presión de unión es ajustable?
A3: ¿Qué es eso?Sí, la presión es ajustable desde 0 ‰ 5 MPa para una compresión uniforme de la interfaz.
P4: ¿Puede esta máquina soportar la producción a escala piloto?
A4: No hay más.Sí, es adecuado para la investigación, la producción a escala piloto y en pequeños lotes.
P5: ¿Es la máquina fácil de operar?
A5: No se puedeSí, el sistema cuenta con una interfaz fácil de usar y una alineación semiautomática para una fácil operación.