| Nombre De La Marca: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Tiempo De Entrega: | 2-4 SEMANAS |
| Condiciones De Pago: | T/T |
Máquina de Recubrimiento de SiC – Deposición Precisa de Adhesivo para Wafers y Materiales de Grafito
La Máquina de Recubrimiento de SiC es un sistema autónomo totalmente automatizado y programable diseñado para la deposición precisa de adhesivo entre wafers, semillas de SiC, papel de grafito y placas de grafito.
Asegura un espesor de recubrimiento controlado y uniforme, evitando la acumulación local o puntos delgados, y proporciona una base estable para el desgasificado al vacío y la sinterización a alta temperatura posteriores.
Ideal para producción a escala piloto o de lotes medianos a grandes, el sistema admite alta repetibilidad y calidad de recubrimiento consistente.
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Recubrimiento Preciso: El espesor de adhesivo controlado asegura una deposición uniforme entre wafers, papel de grafito y placas de grafito.![]()
Amplia Compatibilidad: Funciona con adhesivos que contienen partículas sólidas, soportando una amplia gama de formulaciones.
Operación Automatizada: Control autónomo programable con movimiento XYZ coordinado; adecuado para producción por lotes o a escala piloto.
Pre-Tratamiento Estable: Proporciona una base confiable para el desgasificado al vacío y la sinterización a alta temperatura posteriores.
Alta Repetibilidad: Asegura un recubrimiento consistente en todos los lotes, mejorando el rendimiento y la estabilidad del proceso.
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| Parámetro | Especificación | Notas |
|---|---|---|
| Dimensiones de la Máquina | 920 × 1060 × 1620 mm | Modelo estándar, personalizable |
| Área de Recubrimiento Efectiva | 500 × 500 mm | Expandible |
| Fuente de Alimentación | 120V / 220V ±10%, 50–60Hz | Dependiente de la región |
| Tipo de Boquilla | Ultrasonido, múltiples opciones disponibles | Compatible con varios requisitos de espesor de recubrimiento |
| Espesor del Recubrimiento | 20 nm – decenas de µm | Controlado con precisión, evita la acumulación local o el recubrimiento delgado |
| Caudal de Líquido | 0.006 – 3 ml/s | Depende del disolvente y del tipo de boquilla |
| Posicionamiento | Alineación láser | Posicionamiento preciso de la boquilla |
| Control de Movimiento | Ejes coordinados XYZ, programables independientemente | Admite producción por lotes o a escala piloto |
| Suministro de Líquido | Flujo constante con dispersión en línea | Maneja adhesivos que contienen sólidos, previene la sedimentación |
| Gestión de Residuos | Boquilla de autolimpieza, reciclaje de líquido residual, sistema de escape | Reduce el costo de mantenimiento |
| Calentamiento | Placa de calentamiento por adsorción al vacío a microescala, control multizona | Adecuado para sustratos flexibles como separadores de baterías |
| Opción de Alta Temperatura | Hasta 750°C placa caliente | Permite la preparación de películas delgadas por pirólisis por pulverización |
Semiconductores y Crecimiento de Cristales de SiC: Unión de semillas, preparación de wafers
Recubrimientos Conductivos y Funcionales: SiC, flujo, recubrimientos de fotorresistente
Sustratos Flexibles y Separadores de Baterías: Maneja soluciones adhesivas que contienen sólidos
Vidrio y Materiales Fotovoltaicos: Recubrimiento uniforme entre placas y papel de grafito
P1: ¿Puede la máquina manejar adhesivos que contienen sólidos?
A1: Sí. La máquina utiliza suministro de flujo constante de alta precisión con dispersión en línea, lo que garantiza la pulverización uniforme de adhesivos que contienen sólidos sin obstrucción de la boquilla.
P2: ¿Qué tan preciso es el control del espesor del recubrimiento?
A2: El espesor del recubrimiento varía de 20 nm a decenas de micras, con control preciso para la uniformidad y la repetibilidad.
P3: ¿Qué tipos de sustratos son compatibles?![]()
A3: Wafers, semillas de SiC, papel de grafito y placas de grafito, incluidos sustratos flexibles con calentamiento asistido por vacío.
P4: ¿Se puede utilizar la máquina para la producción por lotes?
A4: Sí. El control programable del eje XYZ admite la producción a escala piloto a lotes medianos-grandes, con operación paralela de múltiples boquillas.
P5: ¿Cómo se asegura la uniformidad del recubrimiento?
A5: La alineación láser, el suministro de flujo constante, la sincronización de múltiples boquillas y la tecnología de boquillas ultrasónicas aseguran una uniformidad >95%.
P6: ¿Es complicada la manutención de la máquina?
A6: No. La máquina está equipada con boquillas de autolimpieza, reciclaje de líquido residual y sistemas de escape, lo que minimiza los requisitos de mantenimiento.