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Detalles de los productos

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Equipo del semiconductor
Created with Pixso. Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo

Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo

Nombre De La Marca: ZMSH
Número De Modelo: High-Precision Double-Sided Grinding/Polishing Equipment
MOQ: 3
Precio: by case
Tiempo De Entrega: 3-6 months
Condiciones De Pago: T/T
Información detallada
Place of Origin:
CHINA
Certificación:
rohs
Lapping machine Max Outline(mm):
φ340/φ390/φ420
Power voltage:
3x10+2x6(mm²)/3x10+2x6(mm²)/3x10+2x6(mm²)
Compressed air supply:
0.5-0.6MPa/0.5-0.6MPa/0.5-0.6MPa
Carrier parameter Quantity:
5
Materials:
Sapphire/Glass/Quartz
Packaging Details:
package in 100-grade cleaning room
Resaltar:

Equipo de rectificado de doble cara para zafiro

,

Máquina pulidora de vidrio de alta precisión

,

Equipo de rectificado de cuarzo con garantía

Descripción de producto

Resumen del equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión​

 

 

​​Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo

 

 

 

El equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión es un dispositivo de mecanizado de precisión especializado diseñado para materiales duros y frágiles como obleas de semiconductores, sustratos de zafiro, vidrio óptico, cristales de cuarzo, cerámica y metales. Al emplear placas de rectificado dobles que giran en direcciones opuestas y un mecanismo de movimiento planetario, el equipo logra el rectificado y pulido simultáneos de doble cara, lo que garantiza una alta planitud (TTV ≤ 0,6 μm), baja rugosidad (Ra ≤ 0,4 nm) y alto paralelismo (≤ 2 μm). Se aplica ampliamente en la fabricación de semiconductores, optoelectrónica, maquinaria de precisión e industrias aeroespaciales, abordando aplicaciones como el adelgazamiento de obleas de silicio, el acabado de espejo de componentes ópticos y el rectificado de precisión de anillos de sellado cerámicos, mejorando así significativamente la eficiencia y el rendimiento del procesamiento.

 

 


 

Datos del equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión

 
 

Categorías

Artículo

Lapeadora

Tamaño de disco único (mm)

φ1112×φ380×50

φ1230×φ426×50

φ1350×φ445×50

Contorno máximo (mm)

φ340

φ390

φ420

Máquina de posicionamiento

Tamaño de pulido de cristal (mm)

φ1149×φ343×50

φ1253×φ403×50

φ1380×φ415×50

Contorno máximo (mm)

φ340

φ390mm

φ420

Parámetro del portador

Cantidad

5

5

5

Número de dientes (sistema métrico)

200

/

/

Módulo (sistema métrico)

DP12

/

/

módulo (sistema métrico)

 

 

 

Modo de conducción

1 motor

/

/

/

2 motores

Φ12.5kw

/

/

3 motores

Φ14.7kw

Φ24.7kw

Φ25.45kw

4 motores

Φ22.7kw

Φ28.8kw

Φ35.7kw

Capacidad

75mm

85

55

60

100mm

40

20

45

125mm

25

25

30

150mm

20

5

15

Tensión de alimentación

/

3x10+2x6(mm²)

3x10+2x6(mm²)

3x10+2x6(mm²)

Suministro de aire comprimido

/

0.5-0.6MPa

0.5-0.6MPa

0.5-0.6MPa

Tamaño

/

2655x1680x2900(mm)

2700x1950x2780(mm)

2950x1890x2970(mm)

Peso

/

Aproximadamente 5.5T

Aproximadamente 8T

Aproximadamente 8T

 

 


 

Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión Principio de funcionamiento

Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo 0
 

El equipo funciona a través de un mecanismo de movimiento planetario:

 

  • ​​Rotación opuesta de doble placa​​: Las placas de rectificado superior e inferior giran en direcciones opuestas para aplicar fuerzas de rectificado uniformes.

 

  • ​​Trayectoria de movimiento planetario​​: Las piezas de trabajo se someten a movimientos orbitales y rotacionales combinados a través de un sistema de rueda planetaria (anillo de engranaje interno que engrana con engranajes solares), lo que garantiza el contacto síncrono con ambas placas.

 

  • ​​Control de presión de circuito cerrado​​: Los reguladores de presión de precisión y las válvulas proporcionales ajustan dinámicamente la presión de rectificado (0–1,000 kg ajustable) para evitar la fractura de materiales delgados o frágiles.

 

  • ​​Enfriamiento y lubricación​​: Los sistemas de enfriamiento por agua/aceite mantienen una temperatura constante (10–25°C), mientras que las lechadas de rectificado (que contienen micropartículas de diamante o carburo de silicio) se hacen circular para mejorar la precisión.

 

 

Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo 1

 

 


 

Características clave del equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión

 
Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo 2

1. Estructura de bastidor de alta rigidez​​

  • Bastidor integrado fundido y forjado con diseño de pórtico de precisión, que logra una capacidad anti-deformación y estabilidad un 40% mejoradas durante el funcionamiento a alta velocidad.
  • El sistema de lubricación automática extiende la vida útil de los engranajes y los cojinetes a más de 10,000 horas.

 

2. ​​Componentes certificados internacionalmente​​

  • Los componentes principales (por ejemplo, cajas de engranajes, cojinetes) utilizan marcas como ​​SEW (Alemania), THK (Japón), SKF (Suiza)​​, lo que garantiza la precisión de la transmisión < 0.005 mm.
  • Los sistemas eléctricos integran ​​PLC Siemens + inversores Schneider​​, que admiten la regulación de velocidad variable de 0–180 rpm para diversos requisitos de materiales.

​​

3. Operación inteligente y adaptabilidad del proceso​​

  • La HMI de pantalla táctil de 7 pulgadas permite recetas de rectificado preestablecidas (por ejemplo, rectificado basto, pulido fino y cambio de modo de acondicionamiento), lo que reduce el tiempo de configuración de parámetros en un 60%.
  • El control de circuito cerrado PID incorporado monitorea la presión, la velocidad y la temperatura en tiempo real, lo que reduce la tasa de fragmentación a < 0.1%.

​​

4. Configuración flexible​​

  • Los diámetros de las placas de rectificado varían de ​​φ300 mm a φ1,510 mm​​, lo que permite acomodar tamaños de piezas de trabajo de 3–300 mm.
  • Las configuraciones de potencia varían de un solo motor (5.5 kW) a configuraciones de siete motores (39 kW en total), lo que permite combinaciones personalizadas de presión-velocidad.
 

 


 

Aplicaciones del equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión​

 

Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo 3

1. Industria de semiconductores​​

  • ​​Adelgazamiento de obleas de silicio/obleas de SiC​​: Tolerancia de espesor ±0.5 μm para el rectificado posterior de obleas de 8 pulgadas.
  • ​​Pulido de arseniuro de galio/zafiro​​: Rugosidad superficial Ra < 0.4 nm para LED y dispositivos láser.

​​

2. Óptica y componentes de precisión​​

  • ​​Acabado de lentes de vidrio óptico/cuarzo​​: Acabado similar a un espejo (λ/20 para λ = 632.8 nm) para lentes de cámara y objetivos de microscopio.
  • ​​Rectificado de anillos de sellado cerámicos​​: Planitud < 0.035 mm para bombas hidráulicas de alta presión y válvulas nucleares.

​​

3. Electrónica y nueva energía​​

  • ​​Sustratos cerámicos/módulos IGBT​​: Consistencia del espesor < 3 μm para mejorar la disipación térmica.
  • ​​Pulido de electrodos de batería de litio​​: Rugosidad Ra < 10 nm para reducir la resistencia interna.

​​

4. Aeroespacial y defensa​​

  • ​​Rodamientos de acero de tungsteno/sellos de titanio​​: Paralelismo < 2 μm para entornos de temperatura/presión extremas.
  • ​​Pulido de ventanas infrarrojas​​: Propiedades de baja dispersión para telescopios y sistemas de guía de misiles.

 

 

Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión para zafiro/vidrio/cuarzo 4

 

 


 

Preguntas frecuentes sobre el equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión

 

 

1. ​​P: ¿Qué materiales son adecuados para las máquinas de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión?​​

​​     R: Específicamente diseñado para materiales duros y frágiles como zafiro, vidrio óptico, cristales de cuarzo, cerámica, obleas de silicio semiconductor y metales, que admiten el procesamiento simultáneo de doble cara de ultraprecisión.​​

 

 

2. ​​P: ¿Qué niveles de precisión pueden lograr las máquinas de rectificado de doble cara?​​

     ​​R: Planitud ≤2 μm, rugosidad superficial Ra <0.4 nm, tolerancia de espesor ±0.5 μm, que cumplen con los requisitos de alta gama para obleas de semiconductores y componentes ópticos.​

 

 


Etiqueta: #Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión, #Personalizado, #Zafiro/Vidrio/Cuarzo