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Datos del producto:
Pago y Envío Términos:
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Laser Type: | Excimer (193nm/248nm), Femtosecond (343nm/1030nm) | Processing Area: | Max 150mm × 150mm |
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Processing Speed: | 50–300mm/s | Lift-Off Thickness: | 10nm–20μm |
System Integration: | EFU clean unit, exhaust gas treatment system | Application: | Semiconductor Manufacturing,Flexible Electronics |
Resaltar: | Máquina de separación por láser de sustrato SiC,Máquina de separación por láser de sustrato SiC personalizada |
Sistema de separación por láser de sustrato SiC de 6 a 12 pulgadas
El sistema de elevación láser (LLO) es una tecnología de procesamiento de precisión avanzada que utiliza láseres pulsados de alta energía para lograr la separación selectiva de materiales en las interfaces.Esta tecnología se aplica ampliamente en la fabricación de semiconductoresLas principales ventajas incluyen el procesamiento sin contacto, el control de alta resolución y la compatibilidad entre múltiples materiales.lo que lo hace indispensable para aplicaciones como la transferencia de masa de MicroLED, la fabricación de pantallas flexibles y el embalaje a nivel de obleas de semiconductores.
Lo más destacado del servicio de la empresa:
Soluciones personalizadas: longitud de onda láser adaptada (193nm1064nm), potencia (1W100W) e integración de automatización para respaldar la I + D y la producción en masa.
Desarrollo de procesos: optimización de parámetros láser, diseño de formación de haz y servicios de validación (por ejemplo, LLO con láser UV para sustratos de zafiro).
Mantenimiento inteligente: monitoreo remoto integrado y diagnóstico de fallos, que garantiza un soporte operativo las 24 horas del día, los 7 días de la semana y con un tiempo de respuesta de < 2 horas.
Parámetro | Valores típicos | - ¿ Qué? |
Tipo de láser | Excimer (193nm/248nm), Femtosecond (343nm/1030nm) | Ancho de pulso 5 ̊20ns, potencia máxima > 10 kW |
Área de procesamiento | El valor máximo de las emisiones de CO2 | Procesamiento paralelo de varias estaciones |
Velocidad de procesamiento | Se aplicarán las siguientes medidas: | Ajustable por material y potencia del láser |
Espesor de elevación | 10 nm ≈ 20 μm | Capacidad de delaminación capa por capa |
Integración del sistema | Unidad de limpieza EFU, sistema de tratamiento de gases de escape | Cumplimiento de la norma ISO 14644 de limpieza |
La LLO opera mediante ablación selectiva en las interfaces del material:
Irradiación láser: los pulsos de alta energía (por ejemplo, excimer o láser de femtosegundos) se enfocan en la interfaz objetivo (por ejemplo, zafiro-GaN), induciendo reacciones fototérmicas/fotoquímicas.
Descomposición de la interfaz: la energía láser desencadena la gasificación (por ejemplo, GaN → Ga + N2), generando plasma y tensión térmica para la delaminación controlada.
Recolección de materiales: Las microestructuras delaminadas se capturan mediante succión al vacío o dinámica de fluidos, garantizando una transferencia libre de contaminación.
Tecnologías clave:
- ¿ Qué?¿ Qué es? | Especificaciones técnicas | Aplicaciones |
Procesamiento sin contacto | Energía láser transmitida a través de la óptica, evitando el esfuerzo mecánico en materiales frágiles | OLED flexible, MEMS |
Alta precisión. | Precisión de posicionamiento ±0,02 mm, control de la densidad de energía ±1% | Transferencia de microLED, patrón sub-μm |
Compatibilidad entre materiales | Soporta láseres UV (CO2), visibles (verde) e IR; compatible con metales, cerámicas y polímeros | Semiconductores, dispositivos médicos y energías renovables |
Control inteligente | Visión automática integrada, optimización de parámetros impulsada por IA, carga/descarga automatizada | Mejora de la eficiencia de la producción de más del 30% |
1. Fabricación de semiconductores
- ¿ Qué?
2. Electrónica flexible
- ¿ Qué?
3. Dispositivos médicos
- ¿ Qué?
4Energías renovables
- ¿ Qué?
1P: ¿Qué es un sistema de elevación láser?
R: Un sistema de elevación por láser es una herramienta de procesamiento de precisión que utiliza láseres pulsados de alta energía para separar selectivamente los materiales en las interfaces.permitiendo aplicaciones como la transferencia de masa de MicroLED y la fabricación de electrónica flexible .
2. P: ¿Qué industrias utilizan los sistemas de LLO?
R: Los sistemas LLO son críticos en la fabricación de semiconductores (envases a nivel de obleas), electrónica flexible (pantallas plegables), dispositivos médicos (fabricación de sensores),y energías renovables (células solares), ofreciendo procesamiento sin contacto y de alta resolución.
Etiquetas: #6-12 pulgadas, #1064nm, # Máquina de sistema de separación láser de sustrato SiC, #Wafers personalizados
Persona de Contacto: Mr. Wang
Teléfono: +8615801942596