logo
PRODUCTOS
PRODUCTOS
Hogar > PRODUCTOS > Oblea LiNbO3 > Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm

Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm

Detalles del producto

Place of Origin: CHINA

Nombre de la marca: ZMSH

Certificación: rohs

Model Number: LNOI Wafers

Condiciones de pago y envío

Precio: by case

Delivery Time: 2-4weeks

Payment Terms: T/T

Consiga el mejor precio
Resaltar:

Oferta de película delgada de niobato de litio

,

Wafers de película delgada de 8 pulgadas

Materials::
Lithium Niobate Single Crystal
Size::
3 Inch 4 Inch 6 Inch 8 Inch
Thickness::
300-1000nm
Orientation::
X-axis cut, Y-axis cut, Z-axis cut
Density::
D=4.64(g/cm3)
Application:
High-speed optical communication, quantum optics
Materials::
Lithium Niobate Single Crystal
Size::
3 Inch 4 Inch 6 Inch 8 Inch
Thickness::
300-1000nm
Orientation::
X-axis cut, Y-axis cut, Z-axis cut
Density::
D=4.64(g/cm3)
Application:
High-speed optical communication, quantum optics
Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm

 

Resumen de las obleas de LNOI

 

 

 

Obleas de película delgada de niobato de litio LNOI de 3 pulgadas/4 pulgadas/6 pulgadas/8 pulgadas con pérdida óptica <0.05 dB/cm

 

Las obleas LNOI (Niobato de Litio sobre Aislante) representan un sustrato de fotónica integrada de alto rendimiento fabricado mediante tecnologías avanzadas de unión de obleas (por ejemplo, Smart Cut™ o unión directa), que integra películas delgadas de LiNbO₃ de un solo cristal (100 nm-1μ m de espesor) sobre sustratos aislantes (como SiO₂/Si o zafiro). ZMSH proporciona obleas LNOI de 4 pulgadas, 6 pulgadas y de tamaño personalizado que admiten múltiples orientaciones de cristal (corte X, corte Y, corte Z), con dopaje de película personalizable (por ejemplo, dopaje con MgO para mejorar el umbral de daño óptico) y espesor de capa de óxido enterrado (100 nm-2μ m). Las opciones de sustrato incluyen silicio, cuarzo o carburo de silicio para satisfacer diversas necesidades de integración optoelectrónica. ZMSH ofrece soporte técnico integral desde el diseño hasta la producción en masa, incluida la optimización de la película, el grabado de guías de onda y los servicios de prueba a nivel de dispositivo, lo que permite aplicaciones de vanguardia en comunicaciones ópticas de alta velocidad e informática cuántica.

 

 


 

Especificación para obleas de niobato de litio sobre aislante (LNOI) con corte X

 

 

S.N Parámetros Especificaciones
1 Especificaciones generales de la oblea LNOI
1.1 Estructura LiNbO₃ / óxido / Si
1.2 Diámetro Φ100 ± 0.2 mm
1.3 Espesor 525 ± 25 μm
1.4 Longitud plana primaria 32.5 ± 2 mm
1.5 Biselado de la oblea Tipo R
1.6 LTV <1.5 μm (5×5 mm²)/95%
1.7 Alabeo +/-50 μm
1.8 Deformación <50 μm
1.9 Recorte de bordes 2 ± 0.5 mm
2 Especificación de la capa de niobato de litio
2.1 Espesor promedio 400 nm ± 10 nm
2.2 Orientación Eje X ±0.5°
2.3 Orientación plana primaria Eje Z ±1°
2.4 Rugosidad de la superficie frontal (Ra) <1 nm
2.5 Defectos de unión >1 mm Ninguno;≤1 mm dentro de 80 en total
2.6 Arañazos en la superficie frontal >1 cm Ninguno;≤1 cm dentro de ≤3 en total
3 Especificación de la capa de óxido (SiO2)
3.1 Espesor 4700 ± 150 nm
3.2 Uniformidad ±5%
4 Especificación de la capa de Si
4.1 Material Si
4.2 Orientación <100> ±1°
4.3 Orientación plana primaria <110> ±1°
4.4 Resistividad >10 kΩ·cm
4.5 Parte trasera Grabado
Notas: Se requiere autorización válida/más reciente del OEM

 

 


Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm 0

 

Características clave de Obleas LNOI

 

 

(1) Pérdida óptica ultrabaja: Pérdida de propagación de la guía de onda <0.05 dB/cm (banda de 1550 nm), 10× inferior a los dispositivos LiNbO₃ convencionales a granel.

 

(2) Fuerte efecto electro-óptico: Coeficiente electro-óptico efectivo (r₃₃) de hasta 90 pm/V (mejora de 3× a través de la confinación del campo óptico), lo que permite una modulación de voltaje ultrabajo (Vπ~1V).

 

(3) Alta densidad de integración: Admite guías de onda submicrónicas (ancho <1μ m), lo que reduce la huella del dispositivo en 100× en comparación con LiNbO₃ a granel.

 

(4) Compatibilidad CMOS: Permite la integración heterogénea con plataformas de fotónica de silicio (SiPh) y nitruro de silicio (SiN) para chips fotónicos multifuncionales.

 

(5) Estabilidad térmica: Temperatura de Curie de hasta 1140°C, adecuada para procesos de embalaje a alta temperatura.

 

 


Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm 1

 

Aplicaciones principales de Obleas LNOI

 

 

1. Comunicaciones ópticas de alta velocidad: El fuerte efecto electro-óptico de LNOI lo hace ideal para módulos ópticos coherentes de 200 Gbps+, como los moduladores de película delgada de LiNbO₃ (ancho de banda >100 GHz).

 

 

2. Óptica cuántica: Las características de baja pérdida admiten la generación de pares de fotones entrelazados y la manipulación del estado cuántico para redes de computación cuántica escalables.

 

 

3. Fotónica de microondas: Combinado con efectos piezoeléctricos, permite matrices ópticas en fase y filtros fotónicos de microondas (que cubren las bandas mmWave 5G/6G).

 

 

4. Óptica no lineal: Alto coeficiente no lineal (χ⁽²⁾) adecuado para peines de frecuencia y dispositivos de amplificación paramétrica.

 

 

5. Aplicaciones de detección: Se utiliza en sensores bioquímicos de alta sensibilidad (por ejemplo, resonadores de microring LNOI basados en silicio).

 

 


 

Servicios de ZMSH

 

 

Como proveedor líder de sustratos de fotónica integrada, ZMSH ofrece servicios técnicos de espectro completo que cubren toda la cadena de valor de LNOI, incluido el diseño de película delgada personalizado (por ejemplo, LiNbO₃ con gradiente dopado), el desarrollo de procesos de unión a nivel de oblea (que admite SiO₂, AlN y otras capas aislantes), la nanofabricación (EBL e IBE) y la verificación del rendimiento a nivel de dispositivo (por ejemplo, pruebas de respuesta electro-óptica y caracterización THz). ZMSH ha logrado la producción en lotes pequeños de obleas LNOI de 6 pulgadas con un rendimiento >90% y está colaborando con instituciones de investigación globales para desarrollar tecnologías de integración heterogénea y LNOI de 8 pulgadas (por ejemplo, plataformas híbridas SiN-LNOI). La I+D futura se centra en reducir la pérdida de inserción (objetivo <0.02 dB/cm) y mejorar la eficiencia de la modulación (optimización r₃₃ a 120 pm/V) para satisfacer las demandas de las comunicaciones ópticas de 800G e Internet cuántico.

 

 

Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm 2Wafers LNOI de película delgada de niobato de litio de 3 / 4 / 6 / 8 pulgadas con pérdida óptica < 0,05 DB / cm 3

 

 


 

Preguntas y respuestas​

 

 

1. P: ¿Para qué se utiliza el niobato de litio?​​
A: El niobato de litio (LiNbO₃) se utiliza ampliamente en la comunicación óptica (por ejemplo, moduladores, guías de onda), dispositivos de ondas acústicas superficiales, óptica no lineal (duplicación de frecuencia, osciladores paramétricos) y sensores piezoeléctricos.

 

 

2. ​​P: ¿Qué grosor tienen las obleas de niobato de litio?​​
  R: Las obleas tradicionales de LiNbO₃ suelen tener un grosor de 0,5 a 1 mm, mientras que las versiones de película delgada (por ejemplo, para fotónica integrada) oscilan entre 300 nm y 900 nm.

 

 

 


Etiqueta: #3inch/4inch/6inch/8inch, #Personalizado, #Película delgada de niobato de litio, #Obleas LNOI, #Sin pulir, #Pérdida óptica <0.05 dB/cm