Wafer de zafiro de 6 pulgadas DSP Diámetro 150 mm espesor 350 μm para electrónica de potencia

Wafer de zafiro de 6 pulgadas DSP Diámetro 150 mm espesor 350 μm para electrónica de potencia

La oblea de zafiro de 6 pulgadas es un sustrato de gran formato de calidad óptica fabricado a partir de óxido de aluminio de cristal único (α-Al2O3) mediante métodos de crecimiento alimentado con película definidos por el borde (EFG) o Kyropoulos (KY),con dimensiones estandarizadas de 150 mm±0Como un sustrato crítico para semiconductores de tercera generación, elOferta de zafiro de 6 pulgadascombina una alta transmitancia óptica (> 85% en el espectro visible), una baja incompatibilidad de la red (13% con GaN) y una excepcional estabilidad mecánica, lo que la hace ideal para la fabricación de LED de alto brillo,Micro-LEDSu formato de gran superficie mejora significativamente la eficiencia de producción epitaxial al tiempo que reduce los costes por chip.impulsar los avances en las industrias de optoelectrónica y semiconductores.

 

Características clave

 

1.Oferta de zafiro de 6 pulgadas deCalidad de cristal superior:

· Densidad de dislocación < 103 cm−2 con rugosidad superficial Ra< 0,3 nm (polido en plano C), cumpliendo con los requisitos de planitud a nivel atómico para la epitaxia de GaN.

· Precisión de orientación del cristal ±0,1° (disponible en las orientaciones C, R y A).

 

 

2.Oferta de zafiro de 6 pulgadas deRendimiento óptico:

· 85% de transmitancia en el espectro visible (400-800 nm) y > 80% en el rango UV (250-400 nm), adecuado para dispositivos fotónicos UV.

· estructuras de sustrato de zafiro con patrón (PSS) o DSP de doble cara pulida personalizables para mejorar la eficiencia de extracción de luz LED en más del 30%.

 

 

3.Oferta de zafiro de 6 pulgadas deEstabilidad térmica/mecánica:

· Punto de fusión 2040°C con CTE emparejado (5,3×10−6/°C a GaN), minimizando las grietas por esfuerzo térmico durante la epitaxia.

· Resistente al plasma para los procesos de deposición MOCVD/PECVD.

 

 

4.Oferta de zafiro de 6 pulgadas deventaja de gran superficie:

· 50% más de superficie de chip utilizable por oblea de 6 pulgadas en comparación con los equivalentes de 4 pulgadas, lo que reduce sustancialmente los costes de producción unitarios.

 

 

---

 

Parámetros técnicos

 

 

 

 

Propiedad	6 pulgadas
Diámetro	150 ± 0,1 mm
El grosor	350 ± 15 mm
	500 ± 15 μm
	1000±15um
La rugosidad	Ra ≤ 0,2 nm
La velocidad warp.	≤ 15um
TTV	≤ 10um
El valor de las emisiones de CO2	20/10
Lengua polaca	DSP (doble lado pulido); SSP ((un solo lado pulido)
Forma de las piezas	En el caso de los equipos de ensayo de la categoría A, el valor de los ensayos de ensayo de la categoría A será el valor de los ensayos de ensayo de la categoría A.
Forma del borde	45°,C Forma
El material	Cristal de zafiro, cuarzo fundido JGS1/JGS2; BF33, D263; vidrio EXG.
Las observaciones	Todas las especificaciones anteriores pueden ser personalizadas a su solicitud

Aplicaciones principales

1. Fabricación de LED:
Wafer de zafiro de 6 pulgadasComo el sustrato principal para la epitaxia de GaN, las obleas de zafiro de 6 pulgadas permiten la producción de LEDs de alto brillo y chips de pantalla Mini / Micro-LED de alto rendimiento, que admiten pantallas ultra-HD de próxima generación.

2- Energía electrónica:
La oblea de zafiro de 6 pulgadas esSe utiliza en dispositivos HEMT GaN-on-sapphire para estaciones base 5G e inversores de potencia de vehículos eléctricos que requieren un funcionamiento de alta frecuencia/alta potencia.

3.¿ Qué?Componentes ópticos:
Cuando se pulió con precisión,Una oblea de zafiro de 6 pulgadassirve como ventanas para entornos extremos (naves espaciales) o sustratos de sensores UV resistentes a la radiación.

4.El SEquipo de semiconductores:
Una oblea de zafiro de 6 pulgadasse utilizan como placas portadoras resistentes a la corrosión y de alto aislamiento (resistividad > 1014 Ω·cm) para sistemas de grabado/implantación iónica.