Nombre De La Marca: | ZMSH |
Número De Modelo: | Sustrato de SiC |
Tiempo De Entrega: | Entre 2 y 4 semanas |
Condiciones De Pago: | T/T |
Wafer SiC, Wafer de Carburo de Silicio, Sustro de SiC, Sustro de Carburo de Silicio, Grado P, Grado D, 2 pulgadas de SiC, 4 pulgadas de SiC, 6 pulgadas de SiC, 8 pulgadas de SiC, 12 pulgadas de SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI, gafas AR,Grado óptico
Aproximadamente 4H-SEMI SiC
- ¿ Qué?
Descripción del SiC 4H-SEMI
El carburo de silicio (SiC) es un semiconductor versátil conocido por su rendimiento en aplicaciones de alta potencia y alta frecuencia.
Su amplio intervalo de banda permite un funcionamiento eficiente a altos voltajes y temperaturas, lo que lo hace adecuado para electrónica de potencia, dispositivos de RF y entornos hostiles.
El SiC es parte integral de industrias como la automotriz y la energía debido a su fiabilidad y eficiencia.
Los métodos de fabricación avanzados, como la deposición química de vapor (CVD) y el transporte físico de vapor (PVT), aseguran componentes de alta calidad y duraderos.
Las propiedades únicas del SiC también lo hacen ideal para optoelectrónica de longitud de onda corta, entornos de alta temperatura, resistencia a la radiación y sistemas electrónicos exigentes.
ZMSH ofrece una gama de obleas de SiC, incluidos los tipos 6H y 4H, sin importar el tipo N, el tipo SEMI o el tipo HPSI, lo que garantiza un suministro estable y de alta calidad,y rentabilidad mediante procesos de producción a gran escala.
Características del4H-SEMI SiC
Especificación del sustrato de carburo de silicio semisolador de 4 pulgadas de diámetro 4H | ||
Propiedad del sustrato | Grado de producción | Grado de imitación |
Diámetro | 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm | |
Orientación de la superficie | en el eje: {0001} ± 0,2° | |
Orientación plana primaria | La temperatura máxima de la superficie de la cubierta de ensayo será de ± 5 °C. | |
Orientación plana secundaria | 90.0 ̊ CW desde el núcleo primario ± 5.0 ̊, de silicio hacia arriba | |
Duración plana primaria | 32.5 mm ± 2,0 mm | |
Duración plana secundaria | 18.0 mm ± 2,0 mm | |
El borde de la oblea | Las demás | |
Densidad de los microtubos | ≤ 5 micropipes/cm2 | ≤ 50 micropipes/cm2 |
Áreas de politipo por luz de alta intensidad | Ninguno permitido | Área ≤ 10% |
Resistencia | 0.015 ~ 0.028Ω·cm | (área 75%) |
0.015 ~ 0.028Ω·cm | ||
El grosor | 350.0 μm ± 25,0 μm o 500.0 μm ± 25,0 μm | |
TTV | ≤ 10 μm | ≤ 15 μm |
VALOR absoluto (BOW) | ≤ 25 μm | ≤ 30 μm |
La velocidad warp. | ≤ 45 μm | |
Finalización de la superficie | Polvo de doble cara, Si Face CMP (polvar químico) | |
La rugosidad de la superficie | CMP Si Face Ra≤0,5 nm | No incluido |
Las grietas causadas por la luz de alta intensidad | Ninguno permitido | |
Las fichas de borde/indentes por iluminación difusa | Ninguno permitido | Qty.2 < 1,0 mm de ancho y profundidad |
Área total utilizable | ≥ 90% | No incluido |
Nota: Las especificaciones personalizadas distintas de los parámetros anteriores son aceptables. |
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*Siéntase libre de contactarnos si tiene demandas personalizadas.
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Preguntas frecuentes
1- ¿ Qué?:¿Cómo garantiza 4H-SiC Semi la calidad de sus obleas?
R: 4H-SiC Semi emplea técnicas de fabricación avanzadas, incluyendo la deposición química de vapor (CVD) y el transporte físico de vapor (PVT),y sigue estrictos procesos de control de calidad para garantizar obleas de alta calidad.
2. P: ¿Cuál es la principal diferencia entre 4H-N SiC y 4H-SEMI SiC
R: La principal diferencia entre el 4H-N SiC y el 4H-SEMI SiC es que el 4H-N SiC (dopado con nitrógeno) es un carburo de silicio semiconductor de tipo n, mientras que el 4H-Semi SiC es un carburo de silicio semisolador,que ha sido procesado para tener una resistencia muy alta.
Etiquetas: #4H-SEMI, #Substrato SiC, # 2 pulgadas, # espesor 350um 500um, # grado primario/dummy, # gafas AR, # grado óptico