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Sic substrato
Created with Pixso. Sustrato 4H-SEMI SiC de 2 pulgadas, espesor 350um 500um, grado Prime/Dummy, vidrios AR, grado óptico

Sustrato 4H-SEMI SiC de 2 pulgadas, espesor 350um 500um, grado Prime/Dummy, vidrios AR, grado óptico

Nombre De La Marca: ZMSH
Número De Modelo: Sustrato de SiC
Tiempo De Entrega: Entre 2 y 4 semanas
Condiciones De Pago: T/T
Información detallada
Lugar de origen:
China.
Material:
monocristal de SiC
Diámetro:
50.8 mm ± 0,38 mm
Calificación:
Grado P o Grado D
Espesor:
350 mm o 500 mm
Orientación:
En el eje: <0001> +/- 0,5 grados
Resistividad:
≥1E5 Ω·cm
Resaltar:

Substrato de SiC de 500um

,

Substrato de SiC de grado P

,

Substrato de SiC de 2 pulgadas

Descripción de producto

Wafer SiC, Wafer de Carburo de Silicio, Sustro de SiC, Sustro de Carburo de Silicio, Grado P, Grado D, 2 pulgadas de SiC, 4 pulgadas de SiC, 6 pulgadas de SiC, 8 pulgadas de SiC, 12 pulgadas de SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI, gafas AR,Grado óptico


Aproximadamente 4H-SEMI SiCSustrato 4H-SEMI SiC de 2 pulgadas, espesor 350um 500um, grado Prime/Dummy, vidrios AR, grado óptico 0

 

  • Usar SIC Monocrystal para hacer

 

  • Apoyar los personalizados con diseño de obras de arte

 

  • de alta calidad, adecuado para aplicaciones de alto rendimiento

 

  • alta dureza, alrededor de 9.2 Mohs

 

  • ampliamente utilizado en áreas de alta tecnología, como la electrónica de potencia, la electrónica automotriz y los dispositivos RF

- ¿ Qué?


Descripción del SiC 4H-SEMI

 

El carburo de silicio (SiC) es un semiconductor versátil conocido por su rendimiento en aplicaciones de alta potencia y alta frecuencia.

Su amplio intervalo de banda permite un funcionamiento eficiente a altos voltajes y temperaturas, lo que lo hace adecuado para electrónica de potencia, dispositivos de RF y entornos hostiles.

 

El SiC es parte integral de industrias como la automotriz y la energía debido a su fiabilidad y eficiencia.

Los métodos de fabricación avanzados, como la deposición química de vapor (CVD) y el transporte físico de vapor (PVT), aseguran componentes de alta calidad y duraderos.

 

Sustrato 4H-SEMI SiC de 2 pulgadas, espesor 350um 500um, grado Prime/Dummy, vidrios AR, grado óptico 1

 

Las propiedades únicas del SiC también lo hacen ideal para optoelectrónica de longitud de onda corta, entornos de alta temperatura, resistencia a la radiación y sistemas electrónicos exigentes.

ZMSH ofrece una gama de obleas de SiC, incluidos los tipos 6H y 4H, sin importar el tipo N, el tipo SEMI o el tipo HPSI, lo que garantiza un suministro estable y de alta calidad,y rentabilidad mediante procesos de producción a gran escala.


 

Características del4H-SEMI SiC

 

Especificación del sustrato de carburo de silicio semisolador de 4 pulgadas de diámetro 4H
Propiedad del sustrato Grado de producción Grado de imitación
Diámetro 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm
Orientación de la superficie en el eje: {0001} ± 0,2°
Orientación plana primaria La temperatura máxima de la superficie de la cubierta de ensayo será de ± 5 °C.
Orientación plana secundaria 90.0 ̊ CW desde el núcleo primario ± 5.0 ̊, de silicio hacia arriba
Duración plana primaria 32.5 mm ± 2,0 mm
Duración plana secundaria 18.0 mm ± 2,0 mm
El borde de la oblea Las demás
Densidad de los microtubos ≤ 5 micropipes/cm2 ≤ 50 micropipes/cm2
Áreas de politipo por luz de alta intensidad Ninguno permitido Área ≤ 10%
Resistencia 0.015 ~ 0.028Ω·cm (área 75%)
0.015 ~ 0.028Ω·cm
El grosor 350.0 μm ± 25,0 μm o 500.0 μm ± 25,0 μm
TTV ≤ 10 μm ≤ 15 μm
VALOR absoluto (BOW) ≤ 25 μm ≤ 30 μm
La velocidad warp. ≤ 45 μm
Finalización de la superficie Polvo de doble cara, Si Face CMP (polvar químico)
La rugosidad de la superficie CMP Si Face Ra≤0,5 nm No incluido
Las grietas causadas por la luz de alta intensidad Ninguno permitido
Las fichas de borde/indentes por iluminación difusa Ninguno permitido Qty.2 < 1,0 mm de ancho y profundidad
Área total utilizable ≥ 90% No incluido
Nota: Las especificaciones personalizadas distintas de los parámetros anteriores son aceptables.

 

 

Más muestras de 4H-SEMI SiC

Sustrato 4H-SEMI SiC de 2 pulgadas, espesor 350um 500um, grado Prime/Dummy, vidrios AR, grado óptico 2

*Siéntase libre de contactarnos si tiene demandas personalizadas.

 

 

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Preguntas frecuentes

1- ¿ Qué?:¿Cómo garantiza 4H-SiC Semi la calidad de sus obleas?

R: 4H-SiC Semi emplea técnicas de fabricación avanzadas, incluyendo la deposición química de vapor (CVD) y el transporte físico de vapor (PVT),y sigue estrictos procesos de control de calidad para garantizar obleas de alta calidad.

 

2. P: ¿Cuál es la principal diferencia entre 4H-N SiC y 4H-SEMI SiC

R: La principal diferencia entre el 4H-N SiC y el 4H-SEMI SiC es que el 4H-N SiC (dopado con nitrógeno) es un carburo de silicio semiconductor de tipo n, mientras que el 4H-Semi SiC es un carburo de silicio semisolador,que ha sido procesado para tener una resistencia muy alta.



Etiquetas: #
4H-SEMI, #Substrato SiC, # 2 pulgadas, # espesor 350um 500um, # grado primario/dummy, # gafas AR, # grado óptico