| Nombre De La Marca: | ZMSH |
| Número De Modelo: | Sustrato de SiC |
| Tiempo De Entrega: | Entre 2 y 4 semanas |
| Condiciones De Pago: | T/T |
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Aproximadamente 4H-SEMI SiC![]()
- ¿ Qué?
Descripción del SiC 4H-SEMI
El carburo de silicio (SiC) es un semiconductor versátil conocido por su rendimiento en aplicaciones de alta potencia y alta frecuencia.
Su amplio intervalo de banda permite un funcionamiento eficiente a altos voltajes y temperaturas, lo que lo hace adecuado para electrónica de potencia, dispositivos de RF y entornos hostiles.
El SiC es parte integral de industrias como la automotriz y la energía debido a su fiabilidad y eficiencia.
Los métodos de fabricación avanzados, como la deposición química de vapor (CVD) y el transporte físico de vapor (PVT), aseguran componentes de alta calidad y duraderos.
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Las propiedades únicas del SiC también lo hacen ideal para optoelectrónica de longitud de onda corta, entornos de alta temperatura, resistencia a la radiación y sistemas electrónicos exigentes.
ZMSH ofrece una gama de obleas de SiC, incluidos los tipos 6H y 4H, sin importar el tipo N, el tipo SEMI o el tipo HPSI, lo que garantiza un suministro estable y de alta calidad,y rentabilidad mediante procesos de producción a gran escala.
Características del4H-SEMI SiC
| Especificación del sustrato de carburo de silicio semisolador de 4 pulgadas de diámetro 4H | ||
| Propiedad del sustrato | Grado de producción | Grado de imitación |
| Diámetro | 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm | |
| Orientación de la superficie | en el eje: {0001} ± 0,2° | |
| Orientación plana primaria | La temperatura máxima de la superficie de la cubierta de ensayo será de ± 5 °C. | |
| Orientación plana secundaria | 90.0 ̊ CW desde el núcleo primario ± 5.0 ̊, de silicio hacia arriba | |
| Duración plana primaria | 32.5 mm ± 2,0 mm | |
| Duración plana secundaria | 18.0 mm ± 2,0 mm | |
| El borde de la oblea | Las demás | |
| Densidad de los microtubos | ≤ 5 micropipes/cm2 | ≤ 50 micropipes/cm2 |
| Áreas de politipo por luz de alta intensidad | Ninguno permitido | Área ≤ 10% |
| Resistencia | 0.015 ~ 0.028Ω·cm | (área 75%) |
| 0.015 ~ 0.028Ω·cm | ||
| El grosor | 350.0 μm ± 25,0 μm o 500.0 μm ± 25,0 μm | |
| TTV | ≤ 10 μm | ≤ 15 μm |
| VALOR absoluto (BOW) | ≤ 25 μm | ≤ 30 μm |
| La velocidad warp. | ≤ 45 μm | |
| Finalización de la superficie | Polvo de doble cara, Si Face CMP (polvar químico) | |
| La rugosidad de la superficie | CMP Si Face Ra≤0,5 nm | No incluido |
| Las grietas causadas por la luz de alta intensidad | Ninguno permitido | |
| Las fichas de borde/indentes por iluminación difusa | Ninguno permitido | Qty.2 < 1,0 mm de ancho y profundidad |
| Área total utilizable | ≥ 90% | No incluido |
| Nota: Las especificaciones personalizadas distintas de los parámetros anteriores son aceptables. | ||
Más muestras de 4H-SEMI SiC
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*Siéntase libre de contactarnos si tiene demandas personalizadas.
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Preguntas frecuentes
1- ¿ Qué?:¿Cómo garantiza 4H-SiC Semi la calidad de sus obleas?
R: 4H-SiC Semi emplea técnicas de fabricación avanzadas, incluyendo la deposición química de vapor (CVD) y el transporte físico de vapor (PVT),y sigue estrictos procesos de control de calidad para garantizar obleas de alta calidad.
2. P: ¿Cuál es la principal diferencia entre 4H-N SiC y 4H-SEMI SiC
R: La principal diferencia entre el 4H-N SiC y el 4H-SEMI SiC es que el 4H-N SiC (dopado con nitrógeno) es un carburo de silicio semiconductor de tipo n, mientras que el 4H-Semi SiC es un carburo de silicio semisolador,que ha sido procesado para tener una resistencia muy alta.
Etiquetas: #4H-SEMI, #Substrato SiC, # 2 pulgadas, # espesor 350um 500um, # grado primario/dummy, # gafas AR, # grado óptico