Enviar mensaje
PRODUCTOS
PRODUCTOS
Hogar > PRODUCTOS > Sic substrato > 4" 4H-Semi alta pureza SIC plaquetas semiconductor de primer grado EPI sustratos

4" 4H-Semi alta pureza SIC plaquetas semiconductor de primer grado EPI sustratos

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: ZMSH

Certificación: ROHS

Número de modelo: HPSI 4h-Semi SIC

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 25pcs

Precio: Negociable

Detalles de empaquetado: caja modificada para requisitos particulares

Tiempo de entrega: en 30 días

Condiciones de pago: T/T

Consiga el mejor precio
Resaltar:

Substratos de EPI de semiconductores

,

Waferas SIC de alta pureza

,

Substrato de 4H-Semi SiC

el material:
HPSI 4h-Semi SIC
Grado:
P
Diámetro:
4''
El grosor:
500 ± 25 μm
orientación:
Se trata de:
TTV:
≤5 μm
arco:
-15 μm~15 μm
deformación:
≤10μm
Aplicación:
Substratos de EPI
el material:
HPSI 4h-Semi SIC
Grado:
P
Diámetro:
4''
El grosor:
500 ± 25 μm
orientación:
Se trata de:
TTV:
≤5 μm
arco:
-15 μm~15 μm
deformación:
≤10μm
Aplicación:
Substratos de EPI
4" 4H-Semi alta pureza SIC plaquetas semiconductor de primer grado EPI sustratos

4H-Semi-Wafers SIC de alta pureza Semiconductores de primer grado Substratos EPI

Descripción del SIC HP 4H:

1Las obleas 4H-SiC (carburo de silicio) de alta pureza son materiales semiconductores muy ideales.

2La hoja de 4H-SiC semi-insulada se prepara mediante pirólisis a alta temperatura, crecimiento de cristales y proceso de corte.

3Las láminas de 4H-SiC semi-aisladas de alta pureza tienen concentraciones de portadores más bajas y propiedades de aislamiento más altas.

4El 4H-SiC es una red hexagonal. Esta estructura cristalina da al 4H-SiC excelentes propiedades físicas y eléctricas.

5El proceso requiere una alta pureza de las materias primas y precisión para garantizar la estructura consistente de la oblea de silicio.

Característicasde HP 4H semi-SIC:

La lámina de 4H-SiC (carburo de silicio) semi-aislada de alta pureza es un material semiconductor ideal:


1Ancho de banda: Generalmente, el 4H-SiC tiene un ancho de banda de aproximadamente 3,26 electrón voltios (eV).

2Debido a su estabilidad térmica y a sus propiedades aislantes, el 4H-SiC puede funcionar en un amplio rango de temperaturas.


3El 4H-SiC tiene una alta resistencia a la radiación utilizada en la energía nuclear y los experimentos de física de altas energías.

4El 4H-SiC tiene una alta dureza y resistencia mecánica, lo que le da una excelente estabilidad y fiabilidad.

5. El 4H-SiC tiene una alta movilidad electrónica en el rango de 100-800 centímetros cuadrados / (V · segundo) (cm ^ 2 / (V · s).


6. Alta conductividad térmica: el 4H-SiC tiene una conductividad térmica muy alta, de unos 490-530 vatios/m-kelle (W/m·K).


7Resistencia a la alta tensión: el 4H-SiC tiene una excelente resistencia a la tensión, por lo que es adecuado para aplicaciones de alta tensión.

Parámetros técnicos deSIC para el HP 4H:

Producción

Investigación

¡ Qué tonto!

El tipo

4 horas

4 horas

4 horas

Resistencia 9En el caso de las máquinas de la categoría 85)

≥ 1E9

100% de la superficie>1E5

70% de la superficie> 1E5

Diámetro

99.5 ~ 100 mm

99.5 ~ 100 mm

99.5 ~ 100 mm

El grosor

500 ± 25 μm

500 ± 25 μm

500 ± 25 μm

En el eje

Se trata de:

Se trata de:

Se trata de:

Fuera del eje

0 ± 0,25°

0 ± 0,25°

0 ± 0,25°

Largo plano secundario

18 ± 1,5 mm

18 ± 1,5 mm

18 ± 1,5 mm

TTV

≤ 5 μm

≤ 10 μm

≤ 20 μm

VAL

El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero.

Se aplicarán las siguientes medidas:

No incluido

- ¿ Por qué?

-15 μm~15 μm

- 35 μm ~ 35 μm

-45 μm ~ 45 μm

La velocidad warp.

≤ 20 μm

≤ 45 μm

≤ 50 μm

Ra5 μm*5 μm)

Ra ≤ 0,2 nm

Ra ≤ 0,2 nm

Ra ≤ 0,2 nm

Densidad de los microtubos

El valor de las emisiones de dióxido de carbono

≤ 5ea/cm2

≤ 10ea/cm2

El borde

Las demás

Las demás

Las demás

Aplicacionesde lasSIC para el HP 4H:

Las láminas de 4H-SiC (carburo de silicio) semi-aisladas de alta pureza se utilizan ampliamente en muchos campos:

1Dispositivos optoelectrónicos: El 4H-SiC semi-aislado se utiliza ampliamente en la fabricación de dispositivos optoelectrónicos.

2. Dispositivos de RF y microondas: Las características de alta movilidad de electrones y baja pérdida del 4H-SiC semi-aislado.

3Otros campos: El 4H-SiC semieisulado también tiene algunas aplicaciones en otros campos, como detectores de radiación.

4Debido a la alta conductividad térmica y la excelente resistencia mecánica del 4H-semi SiCen temperaturas extremas.


5Dispositivos electrónicos de potencia: el 4H-SiC semi-aislado se utiliza ampliamente en la fabricación de dispositivos de alta potencia.

4" 4H-Semi alta pureza SIC plaquetas semiconductor de primer grado EPI sustratos 0

Otro producto relacionado HP 4-H semi-SIC:

4H-N SIC

4" 4H-Semi alta pureza SIC plaquetas semiconductor de primer grado EPI sustratos 1

Preguntas frecuentes sobre el HPSI4H-Semi SIC:

P: ¿Cuál es el nombre de marca deHPSI 4h-semi SIC?

A: El nombre de marca deHPSI 4h-semi SICes ZMSH.

P: ¿Qué es la certificación deHPSI 4h-semi SIC?

A: La certificación deHPSI 4h-semi SICes ROHS.

P: ¿Cuál es el lugar de origen deHPSI 4h-semi SIC?

A: El lugar de origen deHPSI 4h-semi SICes China.

P: ¿Cuál es el MOQ deHPSI 4h-semi SIC a la vez?

R: El MOQ deHPSI 4h-semi SICes 25 piezas a la vez.

Productos similares