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el substrato de cerámica de 25x25x2mmt AlN platea con el tratamiento superficial traslapado

Detalles del producto

Lugar de origen: China

Nombre de la marca: zmkj

Número de modelo: ALN

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 10PCS

Precio: by case

Detalles de empaquetado: caja del casete 25pcs

Tiempo de entrega: 10-20days

Condiciones de pago: T/T, Western Union

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Resaltar:

Placas de cerámica del substrato de AlN

,

placas de cerámica traslapadas del substrato

,

aln traslapado de la superficie de cerámica

Material:
Placa de cerámica de AlN
usos:
placas de cerámica para el proceso del semiconductor
color:
blanco
tamaño:
25x25x2mmt
Pureza:
99,95%
Alta conductividad termal:
200W
superficie:
traslapó
Material:
Placa de cerámica de AlN
usos:
placas de cerámica para el proceso del semiconductor
color:
blanco
tamaño:
25x25x2mmt
Pureza:
99,95%
Alta conductividad termal:
200W
superficie:
traslapó
el substrato de cerámica de 25x25x2mmt AlN platea con el tratamiento superficial traslapado

placas de cerámica del substrato de 25x25x2mmt AlN con la alta conductividad termal 200w

AlN introduce

El nitruro de aluminio (AlN) de cerámica tiene alta conductividad termal (5-10 veces como el alúmina de cerámica),

la constante dieléctrica y el factor de disipación bajo, el buen aislamiento y las propiedades mecánicas excelentes, la resistencia termal no tóxica, alta, la resistencia química, y el coeficiente linear de la extensión es similares con el Si.

Como nueva generación de material de cerámica, AlN de cerámica atrae cada vez más la atención. En llevar

el nivel de las empresas nacionales, la calidad de nuestro substrato de cerámica de AlN de la compañía alcanza el nivel avanzado internacional. Es ampliamente utilizado en componentes de la comunicación, el poder más elevado llevado, dispositivos electrónicos del poder y otros campos.

Nuestra fábrica de cooperación puede aplicó el proceso de la bastidor-cinta para la fabricación del substrato del alúmina. Con buena conductividad termal, aislamiento, resistencia de choque termal, la resistencia bien y el antiacido y el álcali etc., nuestros substratos de cerámica se pueden utilizar en base de cerámica híbrida de los circuitos integrados de la grueso-película (HIC), de la radiación del LED, módulo de poder, dispositivos de semiconductor y otros campos.

Característica y Advantagement de AlN

- Nombre de producto:

Nitruro de aluminio/AIN Ceramic Substrate

- Material: Nitruro de aluminio/AlN
- Características típicas:

1. Conductividad termal muy alta

2. Buen aislamiento eléctrico

3. Resistencia a la corrosión

4. Buena llanura

- Usos típicos:

1. Dispositivo electrónico del poder

2. Alto brillo LED

3. Dispositivo de comunicación

Propiedades materiales
Propiedades/material Alúmina del 96% AlN
Densidad (g/cm3) 3,6 3,3
Color Blanco Gris
Fuerza dieléctrica (KV/mm) ≥17 ≥17
Constante dieléctrica (1MHz) 10,6 8,9
Resistencia de volumen (@20°C, Ω.cm) ≥1014 ≥1014
Conductividad termal (@20°C, W/mk) ≥24 ≥175
Coeficiente de la extensión termal (10-6/°C) 6.5-8.0 4,8
Fuerza flexural (MPa) ≥350 ≥450

el substrato de cerámica de 25x25x2mmt AlN platea con el tratamiento superficial traslapado 0el substrato de cerámica de 25x25x2mmt AlN platea con el tratamiento superficial traslapado 1

el substrato de cerámica de 25x25x2mmt AlN platea con el tratamiento superficial traslapado 2

El otro tamaño regular relacionado
Grueso (milímetros) anchura del lengthx (milímetros)
0,385

2 ″ * 2 ″

50.8mm*50.8m m

3 ″ * 3 ″

76.2mm*76.2m m

4 ″ * 4 ″

101.6mm*101.6m m

4,5 ″ * 4,5 ″

114.3mm*114.3m m

0,5
0,635
1,0
diámetro (milímetros)
1,0

Φ16

Φ19

Φ20

Φ26

Φ30

Φ35

Φ40

Φ45

Φ50

Φ52

Φ60 Φ75 Φ80
1,2
1,5
2,0
2,5
Diámetro (milímetros) Grueso (milímetros)

2"

(50.8m m)

DE 16m m

3"

(76.2m m)

OF22mm

4"

(100m m)

DE 30m m

5"

(125m m)

DE 42.5m m

6"

(150m m)

DE 47.5m m

0,385
0,5
0,65
1,0

Servicio de pulido

Nuestro substrato de AlN se puede pulir (pulimento solo y doble) por la máquina avanzada que importó

del extranjero. La aspereza de superficie de cerámica del substrato puede alcanzar a 1nm sin poroso después de ser pulido.

Es perfectamente conveniente para la aplicación para dispositivos de pequeña espec., alta precisión, atando con alambre densidad y buena estabilidad.