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Wafer de silicio de 8 pulgadas de diámetro 200 mm <111> espesor 700um P tipo N tipo de pulido único pulido doble

Detalles del producto

Lugar de origen: China

Nombre de la marca: zmkj

Número de modelo: Si-8 pulgadas

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 25pcs

Precio: by case

Detalles de empaquetado: casstle 25pcs en sitio de limpieza de 100 grados

Tiempo de entrega: 5-30days

Consiga el mejor precio
Resaltar:

substrato de silicio

,

oblea de silicio pulida

El material:
Si de cristal único
Industria:
Wafer de semiconductores IC, solor, vidrio óptico
Aplicación:
IC, oblea solar, lente óptica,
El tamaño:
el diámetro de 200 mm
Método:
CZ,Fz
Tipo de producto:
Se aplicará el método siguiente:
Grado:
Grado de primer grado/grado de prueba
El material:
Si de cristal único
Industria:
Wafer de semiconductores IC, solor, vidrio óptico
Aplicación:
IC, oblea solar, lente óptica,
El tamaño:
el diámetro de 200 mm
Método:
CZ,Fz
Tipo de producto:
Se aplicará el método siguiente:
Grado:
Grado de primer grado/grado de prueba
Wafer de silicio de 8 pulgadas de diámetro 200 mm <111> espesor 700um P tipo N tipo de pulido único pulido doble

Descripción del producto

Wafer de silicio de 8 pulgadas Diámetro 200 mm espesor 700um P Tipo N Tipo de pulido único Polido doble

Las obleas de silicio generalmente se cortan a partir de varillas de silicio monocristalino de alta pureza.y luego cortar y pulir para hacer obleas de silicioLos diámetros comunes de las obleas de silicio incluyen 3 pulgadas, 4 pulgadas, 6 pulgadas, 8 pulgadas, 12 pulgadas, etc. El grosor de las obleas generalmente está entre 0,5 y 0,7 mm.Las obleas de silicio pueden ser dopadas con diferentes elementos de impurezas (ePor ejemplo, el fósforo, el boro) para ajustar sus propiedades eléctricas para crear materiales de silicio de tipo n o p.Esto es importante para la fabricación de diversos circuitos integrados y dispositivos semiconductoresLa superficie de las obleas de silicio debe ser pulida, limpiada y otros tratamientos para eliminar los defectos de la superficie y la contaminación y garantizar que la superficie de la obleas sea plana y lisa.

Wafer de silicio de 8 pulgadas de diámetro 200 mm <111> espesor 700um P tipo N tipo de pulido único pulido doble 0


Características

1.Estructura de cristal:El silicio es un semiconductor elemental típico con una estructura cristalina de diamante regular y una disposición ordenada de átomos, lo que proporciona una buena base para sus propiedades electrónicas.
2.Características electrónicas:El ancho de banda del silicio es de aproximadamente 1.12 eV, que está entre el aislante y el conductor, y puede generar y recombinar pares de electrones-agujeros bajo la acción de un campo eléctrico externo,con un contenido de aluminio superior a 10%,.
3.El dopaje:El silicio puede ajustarse incorporando elementos de impurezas del grupo III (por ejemplo, B) o V (por ejemplo, P, As) para ajustar su tipo de conductividad y resistividad,que permite la fabricación de diversos dispositivos semiconductores.
4.Oxidabilidad:El silicio puede reaccionar químicamente con el oxígeno a altas temperaturas para formar una película densa y uniforme de dióxido de silicio (SiO2), que sienta las bases para los procesos de circuitos integrados basados en silicio.
5.Propiedades mecánicas:El silicio tiene una alta dureza, resistencia y estabilidad química, lo que favorece el corte, pulido y otros procesos de procesamiento posteriores.
6.Tamaño y tamaño:Las obleas se pueden preparar en discos de entre 2 pulgadas y 12 pulgadas de diámetro para satisfacer las necesidades de diferentes procesos.

Wafer de silicio de 8 pulgadas de diámetro 200 mm <111> espesor 700um P tipo N tipo de pulido único pulido doble 1


Parámetros técnicos

Wafer de silicio de 8 pulgadas de diámetro 200 mm <111> espesor 700um P tipo N tipo de pulido único pulido doble 2


Aplicaciones

1.Circuitos integrados:Las obleas de silicio son los portadores principales para la fabricación de varios circuitos integrados digitales (como CPU, memorias) y circuitos integrados analógicos (como amplificadores y sensores operativos).
2.Celdas solares:Las obleas de silicio se fabrican en módulos de células solares, que se utilizan ampliamente en la generación de energía fotovoltaica distribuida y el suministro de energía.
3.Sistemas microelectromecánicos (MEMS):Los dispositivos MEMS como microactuadores y sensores se fabrican utilizando las propiedades mecánicas y las técnicas de microfabricación de los materiales de silicio.
3.Electrónica de potencia:Fabricar una amplia gama de dispositivos de semiconductores de potencia utilizando una tolerancia a altas temperaturas y una alta capacidad de carga de potencia a base de silicio.
4.Los sensores:Los sensores basados en silicio se utilizan ampliamente en equipos electrónicos, control industrial, electrónica automotriz y otros campos, como sensores de presión, sensores de aceleración, etc.

Wafer de silicio de 8 pulgadas de diámetro 200 mm <111> espesor 700um P tipo N tipo de pulido único pulido doble 3


Nuestros servicios

1Fabricación y venta directa.

2Citas rápidas y precisas.

3Responderemos en 24 horas laborales.

4. ODM: diseño personalizado es disponible.

5Velocidad y entrega preciosa.


Preguntas frecuentes

1.P: ¿Cuál es el tiempo de entrega?
A: (1) Para los productos estándar
Para el inventario: la entrega es de 5 días hábiles después de realizar el pedido.
Para productos personalizados: la entrega es de 2 o 3 semanas después de realizar el pedido.
(2) Para los productos de forma especial, la entrega es de 4 semanas laborables después de realizar el pedido.

2.P: ¿Puedo personalizar los productos según mis necesidades?
R: Sí, podemos personalizar el material, especificaciones para sus componentes ópticos
basado en sus necesidades.