Placa cerámica escalonada de carburo de silicio (SiC) personalizada para equipos de semiconductores

Resumen del producto

Este componente cerámico de carburo de silicio personalizado cuenta con una geometría de placa circular con un borde escalonado mecanizado con precisión.La estructura escalonada permite un posicionamiento axial preciso e integración estable en cámaras de proceso de semiconductores y sistemas térmicos avanzados.

Fabricado con cerámica SiC de alta pureza, el componente ofrece una excelente resistencia a altas temperaturas, exposición al plasma, corrosión química y choque térmico.La superficie se deja sin pulir intencionalmente, ya que el componente está diseñado para un uso funcional y estructural en lugar de aplicaciones ópticas o electrónicas.

Los usos típicos incluyen cubiertas de cámara, tapas de revestimiento, placas de soporte,y componentes estructurales de protección en equipos de fabricación de semiconductores donde la estabilidad dimensional a largo plazo y la fiabilidad del material son críticas.

Características clave

• Material cerámico de carburo de silicio de alta pureza

• Diseño de bordes escalonados para posicionar y ensamblar con precisión

• Superficie de tierra sin pulir optimizada para el rendimiento funcional

• Excelente estabilidad térmica y baja deformación térmica

• Resistencia superior al plasma, a los productos químicos y a los gases corrosivos

• Alta resistencia mecánica y rigidez

• Apto para ambientes de vacío y procesos limpios

• Dimensiones y geometrías personalizadas disponibles

Parámetros técnicos (típicos)

Nota: Los parámetros pueden variar según el grado de SiC, el método de formación y los requisitos de mecanizado.

Aplicaciones típicas

• Las cámaras de proceso de semiconductores (CVD, PECVD, LPCVD, sistemas de grabado)

• Capaces para cámaras y tapas de revestimiento

• Placas de soporte estructural en equipos de alta temperatura

• Componentes cerámicos que se enfrentan al plasma o que están adyacentes al plasma

• Sistemas avanzados de procesamiento al vacío

• Partes estructurales de cerámica a medida para equipos de semiconductores y optoelectrónicos

Capacidades de personalización

• Diámetro exterior y grosor personalizados

• Alturas y anchos de escalones personalizados

• Las partidas de las partidas 1 y 2 de las partidas 2 y 3 de las partidas 3 y 4 de las partidas 4 y 5 de las partidas 4 y 5 de las partidas 4 y 5 de las partidas 5 y 6 de las partidas 5 y 6 de las partidas 5 y 6 de las partidas 5 y 6 de las partidas 6 y 7 de las partidas 6 y 7 de las partidas 6 y 7

• Mecanizado según dibujos o muestras del cliente

• Se apoya la producción de pequeños lotes, prototipos y en volumen

Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuál es la función principal de esta placa cerámica escalonada de SiC?

A: ¿Qué quieres decir?
Este componente se utiliza principalmente como parte cerámica estructural o funcional, como una cubierta de cámara, placa de soporte o tapa de revestimiento, en equipos de semiconductores y procesos de alta temperatura.El diseño escalonado permite un posicionamiento preciso y un montaje estable dentro de las estructuras del equipo.

P2: ¿Por qué la superficie no está pulida?

A: ¿Qué quieres decir?
La superficie sin pulir es intencional. Este componente no se utiliza para funciones ópticas o electrónicas, sino para fines estructurales y de protección.Las superficies del suelo son suficientes y a menudo se prefieren para mejorar la estabilidad mecánica y reducir el costo de fabricación en aplicaciones de cámara de proceso.

P3: ¿Este componente es adecuado para entornos de plasma?

A: ¿Qué quieres decir?
Sí, el carburo de silicio ofrece una excelente resistencia a la erosión del plasma y la corrosión química, por lo que es adecuado para aplicaciones frente al plasma o adyacentes al plasma en cámaras de proceso de semiconductores.

P4: ¿Se puede utilizar esta pieza en sistemas de vacío?

A: ¿Qué quieres decir?
El material y el proceso de fabricación son compatibles con ambientes de vacío.La cerámica SiC presenta una baja desgasificación y mantiene la estabilidad dimensional en condiciones de vacío y ciclo térmico.

P5: ¿Se pueden personalizar las dimensiones y la geometría del paso?

A: ¿Qué quieres decir?
El diámetro exterior, el grosor, la altura del escalón, el ancho del escalón y las características de los bordes se pueden personalizar según los dibujos del cliente o los requisitos de la aplicación.

P6: ¿Ofrece versiones pulidas o recubiertas?

A: ¿Qué quieres decir?
Se puede proporcionar un acabado de superficie opcional, incluido el rectificado o pulido fino, a petición. También pueden estar disponibles recubrimientos según la aplicación y el entorno de operación.

P7: ¿Qué industrias suelen utilizar este tipo de componentes?

A: ¿Qué quieres decir?
Este tipo de componente cerámico de SiC se utiliza comúnmente en la fabricación de semiconductores, optoelectrónica, sistemas de vacío avanzados y equipos de procesamiento industrial de alta temperatura.

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