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Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores

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Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores

High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing
High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing

Ampliación de imagen :  Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores

Datos del producto:
Lugar de origen: China
Nombre de la marca: ZMSH
Certificación: rohs
Pago y Envío Términos:
Cantidad de orden mínima: 5
Precio: 100
Detalles de empaquetado: Cojín de espuma + caja de cartón
Tiempo de entrega: 3-4 semana
Condiciones de pago: T/t
Capacidad de la fuente: mes 1000per
Contacto
Descripción detallada del producto
Resistencia de la superficie: 10⁴~10⁹Ω Tamaño: Personalizable (para obleas de 4 a 12 pulgadas)
Purificación: 990,9% Densidad: D=8,91 ((g/cm3)
Diámetro: 25 a 500 mm Aplicación: Prueba del paquete, clasificación de los chips
Fuerza mecánica: Resistencia a la flexión > 400 MPa Resistencia: 0.1 ~ 60 ohm.cm
resistencia térmica: ℃ 1600 Resistencia química: Resistente a ácidos, bases y plasma
Resaltar:

Procesamiento de semiconductores Efector final SiC

,

Efector final de manipulación de obleas SiC

,

Efector de extremo de SiC resistente a la corrosión

 

Descripción del producto:

 

Nuestros efectores finales de SiC están diseñados para la manipulación de obleas ultralimpia en entornos de fabricación de semiconductores. Fabricados con carburo de silicio de alta pureza, estas horquillas proporcionan una resistencia térmica excepcional, estabilidad química, y resistencia mecánica—lo que las hace ideales para su uso en cámaras de proceso agresivas como grabado, deposición y sistemas de transporte a alta temperatura.

El cuerpo denso de SiC de grano fino asegura baja generación de partículas, excelente estabilidad dimensional, y compatibilidad con obleas de 200 mm a 300 mm. Hay diseños personalizados disponibles para brazos robóticos y transportadores de obleas específicos.

 

 

Características principales:

  • Material: Carburo de silicio de alta pureza (SiC)

 

  • Excelente resistencia térmica (hasta 1600°C)

 

  • Resistencia superior a la corrosión química y por plasma

 

  • Alta resistencia mecánica y rigidez

 

  • Baja generación de partículas para uso en sala limpia

 

  • Disponible para la manipulación de obleas de 4", 6", 8" y 12"

 

  • Formas y ranuras personalizadas para compatibilidad robótica

 

 

 

Especificaciones del producto:

 

Parámetro Especificación
Material SiC de alta pureza (≥99%)
Tamaño Personalizable (para obleas de 4 a 12 pulgadas)
Acabado superficial Pulido o mate según requerimiento
Resistencia térmica Hasta 1600°C
Resistencia química Resistente a ácidos, bases y plasma
Resistencia mecánica Resistencia a la flexión > 400 MPa
Grado de sala limpia Adecuado para Clase 1–100

 

 

Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores 0Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores 1Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores 2Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores 3Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores 4Efector de extremo de SiC de alta pureza para el manejo de obleas Tenor resistente a la corrosión tenedor para el procesamiento de semiconductores 5

 

 

 

 

Palabras clave / Etiquetas:
 

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etiqueta:

Single Tray Sapphire Parts,

2inch Sapphire Wafer,

Sapphire Wafer Single Packaging

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