Detalles del producto
Place of Origin: CHINA
Nombre de la marca: ZMSH
Certificación: rohs
Model Number: 8 Inch Quartz Wafer
Condiciones de pago y envío
Minimum Order Quantity: 10
Precio: by case
Packaging Details: Package in 100-grade cleaning room
Delivery Time: 5-8weeks
Payment Terms: T/T
Supply Ability: 1000pcs per month
Diameter: |
200 mm (8-inch) |
Thickness Range: |
100 μm – 3000 μm |
Total Thickness Variation (TTV): |
≤10 μm |
Surface Roughness (Ra): |
≤1.0 nm |
otal Impurity Content: |
≤2.0 μg/g (High-Purity Grade) |
Applications: |
Semiconductor Lithography Masks, UV Optical Devices, MEMS Sensors, Laser Systems |
Diameter: |
200 mm (8-inch) |
Thickness Range: |
100 μm – 3000 μm |
Total Thickness Variation (TTV): |
≤10 μm |
Surface Roughness (Ra): |
≤1.0 nm |
otal Impurity Content: |
≤2.0 μg/g (High-Purity Grade) |
Applications: |
Semiconductor Lithography Masks, UV Optical Devices, MEMS Sensors, Laser Systems |
La oblea de cuarzo de 8 pulgadas es un material de sustrato de precisión fabricado a partir de vidrio de cuarzo sintético de alta pureza (SiO2), que ofrece propiedades físicas, químicas y ópticas excepcionales.Con un diámetro estándar de 200 mm (8 pulgadas) y espesor personalizable (e.g., 0,5 mm ∼ 10 mm), se utiliza ampliamente en aplicaciones de semiconductores, optoelectrónica y óptica de gama alta.excepcional estabilidad térmicaLas obeliscas de cuarzo son una opción ideal para procesos críticos como la fotolitografía, el grabado y la deposición de películas finas.sus propiedades dieléctricas estables y su resistencia a la radiación las hacen adecuadas para sensores de alta precisión y componentes aeroespaciales.
Parámetros | Valores/especificaciones |
Diámetro | de una anchura superior a 200 mm |
Rango de espesor | 100 μm ️ 3000 μm |
Variación total del grosor (TTV) | ≤ 10 μm |
Roughness de la superficie (Ra) | ≤ 1,0 nm |
Contenido total de impurezas | ≤ 2,0 μg/g (grado de alta pureza) |
Coeficiente de expansión térmica | 0.55 × 10−6/K (20 ≈ 300 °C) |
Resistencia a la temperatura | Punto de ablandamiento 1683°C, tolerancia a corto plazo hasta 1450°C |
Transmisibilidad UV | > 90% de transmisión media (200-260 nm) |
Aplicaciones | Máscaras de litografía semiconductoras, dispositivos ópticos UV, sensores MEMS, sistemas láser |
1.Alta pureza (≥ 99,99%)Minimiza las impurezas en los procesos de semiconductores, mejorando el rendimiento.
2.Excelente estabilidad térmica:Punto de ablandamiento hasta 1730°C, adecuado para procesos a altas temperaturas (por ejemplo, difusión, oxidación).
3.Baja expansión térmica (5.5×10−7/°C):Reduce la deformación bajo tensión térmica, mejorando la precisión de mecanizado.
4."Técnicas de detección" de las características de las máquinas de detección.Ideal para litografía UV, sensores ópticos y aplicaciones con láser.
5.Resistencia química:Resiste ácidos fuertes (excepto HF) y álcalis, adecuado para entornos húmedos de grabado.
6.Las características de los sistemas de control de velocidad de los dispositivos de control de velocidad son las siguientes:Asegura la uniformidad en la fotolitografía y la deposición de películas delgadas.
Industria | Aplicaciones | Beneficios clave |
Semi-conductores | Substratos para máscaras fotográficas, soportes de grabado, almohadillas de pulido CMP, bandejas de proceso de difusión | Estabilidad a altas temperaturas, defectos muy bajos, garantizan la precisión de fabricación de chips |
Productos fotovoltaicos | Procesos PECVD para células solares, portadores de hornos de difusión, sustratos de deposición de película delgada | Resistencia al choque térmico, mejora la eficiencia de la célula |
Optoelectrónica | Substratos LED/LD, ventanas láser, protección de sensores ópticos | Alta transmitancia UV-IR, baja fluorescencia, mejora el rendimiento del dispositivo |
Óptica de precisión | Sustratos de lentes, prismas, divisores de haz, ventanas IR | Baja expansión térmica, alta homogeneidad, garantiza la estabilidad del sistema óptico |
Investigación y laboratorio | Dispositivos de radiación sincrotrón, experimentos VUV, detectores de física de alta energía | Resistente a la radiación, puede soportar ambientes extremos |
Aeronautica y aeroespacial | Ventanas ópticas por satélite, ventanas de observación de alta temperatura para naves espaciales | Resistencia a los rayos cósmicos, resistencia a los choques térmicos, listo para el espacio |
ZMSH se especializa en I + D, producción y ventas de productos de vidrio de cuarzo de alta precisión, ofreciendo:
· Múltiples tamaños: obleas de 2 ′′ a 12 ′′, con personalizaciones no estándar (por ejemplo, cuadrados, formas especiales).
• Forma: redonda, cuadrada, anular, de sector, etc., adaptada a las necesidades de los equipos.
· Opciones de material: cuarzo sintético (JGS1/JGS2/JGS3), sílice fundido, cuarzo de bajo OH.
· Tratamientos superficiales: pulido, recubrimientos (AR/IR/DLC), perforación, ranuras, etc.
· Soluciones específicas de la industria: componentes de cuarzo personalizados para semiconductores, fotovoltaicos, comunicaciones ópticas, etc.
Breve introducción de las ventanas de cristal de cuarzo:
ZMSH proporciona ventanas de cristal de cuarzo de precisión personalizada para sistemas ópticos UV-Vis-IR. Las características personalizables incluyen:
· Formas: redondas, cuadradas, rectangulares o de geometría compleja.
· Dimensiones: Diámetro 1 mm ≈ 500 mm, grosor 0,1 mm ≈ 50 mm.
· acabados superficiales: pulido de doble cara, revestimientos AR, revestimientos metálicos.
· Aplicaciones: ventanas láser, miradores al vacío, visores de alta temperatura, componentes de espectrómetro.
Equipado con tecnologías avanzadas de grabado CNC, corte láser y recubrimiento, ZMSH garantiza una alta transmitancia, baja distorsión del frente de onda y durabilidad ambiental.
Prototipos y producción en masa disponibles póngase en contacto con nosotros para obtener soluciones a medida!
1P: ¿Cuál es el grosor estándar de una oblea de cuarzo de 8 pulgadas?
R: El grosor estándar varía de 0,5 mm a 1,0 mm, con opciones personalizadas de hasta 10 mm para aplicaciones específicas de semiconductores.
2P: ¿Por qué usar obleas de cuarzo en lugar de obleas de silicio?
R: Las obleas de cuarzo proporcionan una transparencia UV superior (> 90% @ 193nm), una mayor estabilidad térmica (hasta 1730 °C) y una mejor resistencia química que el silicio para litografía y procesos en ambientes hostiles.
Etiquetas: # 8 pulgadas de sustrato de cuarzo, # personalizado, # placas de silicio fundido, # SiO2 cristal, # obleas de cuarzo, # grado JGS1/JGS2, # alta pureza, # componentes ópticos de silicio fundido, # placa de cristal de cuarzo,#Diámetro 200 mm , Wafer de cristal de cristal de cuarzo, SiO2 de pureza #5N, resistente al calor, transparente, sustrato de cristal de cuarzo monocristalino, TTV ≤10μm, Ra ≤1,0 nm, sensores de alta precisión