Detalles del producto
Lugar de origen: China
Nombre de la marca: ZMSH
Certificación: rohs
Número de modelo: SiC 4H-P
Condiciones de pago y envío
Precio: by case
Condiciones de pago: T/T
Capacidad de la fuente: 1000pc/month
Polytype: |
4H-P |
Densidad: |
3,23 G/cm3 |
Dureza de Mohs: |
≈9.2 |
Orientación superficial: |
En el eje: [1120] ± 0,5° para 4H-P |
Embalaje: |
Embalaje aséptico independiente único, nivel de limpieza 100 |
Aplicación: |
Chip LED, comunicación por satélite |
Polytype: |
4H-P |
Densidad: |
3,23 G/cm3 |
Dureza de Mohs: |
≈9.2 |
Orientación superficial: |
En el eje: [1120] ± 0,5° para 4H-P |
Embalaje: |
Embalaje aséptico independiente único, nivel de limpieza 100 |
Aplicación: |
Chip LED, comunicación por satélite |
El sustrato de carburo de silicio de tipo 4H-P es un material semiconductor con una estructura de red hexagonal,y la conductividad de tipo P se obtiene mediante un proceso de dopado específico (como el dopado de aluminio y otros elementos)Dichos sustratos suelen tener altas concentraciones de dopante y baja resistividad, lo que los hace ideales para la fabricación de dispositivos de alta potencia.Un eje de 0 ° generalmente se refiere al hecho de que una dirección cristalina particular o el borde de posicionamiento del sustrato tiene un ángulo de 0 ° desde una dirección de referencia (como el plano del sustrato), lo que ayuda a garantizar la coherencia y fiabilidad del dispositivo en los procesos de fabricación posteriores.
Propiedad |
Tipo P 4H-SiC, cristal único |
Parámetros de la red |
a=3,082 Å c=10,092 Å |
Secuencia de apilamiento |
El ABCB |
Dureza de Mohs |
≈9.2 |
Densidad |
3.23 g/cm3 |
Coeficiente de expansión térmica |
4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) |
Indice de refracción @750nm |
no = 2,621 ne = 2.671 |
Constante dieléctrico |
C ~ 9.66 |
Conductividad térmica |
3 a 5 W/cm·K@298K |
La banda-brecha |
3.26 eV |
Campo eléctrico de ruptura |
2-5×106V/cm |
Velocidad de deriva de saturación |
2.0 × 105 m/s |
Orientación de la oblea |
En el eje: [1120] ± 0,5° para 4H/6H-P |
ZMSH ofrece una gama completa de servicios de sustrato de carburo de silicio 4H-P (eje 0°), incluido el procesamiento personalizado de precisión para satisfacer las necesidades específicas del cliente,la utilización de canales logísticos profesionales para garantizar la seguridad de los productos y la entrega a tiempo, y el uso de materiales de embalaje a prueba de choques y humedad cuidadosamente empaquetados y entregados para garantizar la entrega de sustratos de carburo de silicio de alta calidad.
1P: ¿Cuál es la diferencia entre el tipo 4H-P y el tipo 6H de carburo de silicio de sustrato?
R:En comparación con el 6H, el sustrato SIC 4H-P tiene una mayor movilidad de electrones y una mejor conductividad térmica, lo que es adecuado para la fabricación de dispositivos de alta potencia.
2P: ¿Cuál es el efecto del eje 0° en el rendimiento del sustrato de carburo de silicio?
R:El ajuste del eje a 0° ayuda a garantizar la consistencia y fiabilidad del dispositivo en el proceso de fabricación posterior.mejora del rendimiento eléctrico y la estabilidad del dispositivo.
Etiqueta: #Wafer Sic, #Substrato de carburo de silicio, tipo #4H-P, #eje 0°, #Alta pureza, #Sic tipo 4H-P