Detalles del producto
Lugar de origen: Shangai China
Nombre de la marca: ZMSH
Certificación: ROHS
Número de modelo: Sustrato de SiC
Condiciones de pago y envío
Tiempo de entrega: en 30 días
Condiciones de pago: T/T
Parámetro: |
N-TYPE |
Polytype: |
4 horas |
Método del crecimiento: |
CVD |
El grosor: |
350 μm |
grados: |
Primero, Dummy, Busca |
Coeficiente de expansión térmica: |
4.5 (10-6K-1) |
Parámetro: |
N-TYPE |
Polytype: |
4 horas |
Método del crecimiento: |
CVD |
El grosor: |
350 μm |
grados: |
Primero, Dummy, Busca |
Coeficiente de expansión térmica: |
4.5 (10-6K-1) |
Substrato de SiC 4H-N de espesor 350um utilizado en material semiconductor de optoelectrónica
Descripción del producto
Los sustratos de SiC son materiales clave en el campo de la tecnología de semiconductores, que ofrecen propiedades únicas y aplicaciones prometedoras.El carburo de silicio (SiC) es un material semiconductor de banda ancha conocido por su excelente, propiedades térmicas y mecánicas.
Los sustratos 4H-N SiC son típicamente semiconductores de tipo n, donde los dopantes de nitrógeno (N) introducen el exceso de electrones en la red cristalina,con una capacidad de transmisión superior a 20 W,Estos sustratos encuentran aplicaciones en electrónica de potencia, dispositivos de alta frecuencia y optoelectrónica debido a su alta movilidad electrónica y baja resistencia.
Por otro lado, los sustratos de SiC también pueden exhibir un comportamiento semi-aislante, lo que los hace ideales para aplicaciones de alta potencia y alta temperatura.Las propiedades semi-aislantes surgen de defectos intrínsecos o de un dopaje intencional con impurezas de nivel profundo.Estos sustratos se utilizan ampliamente en dispositivos de alta potencia de radiofrecuencia (RF), electrónica de microondas y sensores de entornos hostiles.
La fabricación de sustratos de SiC de alta calidad implica técnicas de crecimiento avanzadas como el transporte físico de vapor (PVT), la deposición química de vapor (CVD) o la epitaxia por sublimación.Estas técnicas permiten un control preciso de la estructura cristalina del materialLas propiedades únicas del SiC, combinadas con los procesos de fabricación precisos, permiten a los materiales de alta precisión, como el carbono y el carbono, obtener una mayor calidad de vida y una mayor concentración de dopantes.hacer que los sustratos de SiC sean muy valiosos para una variedad de aplicaciones de semiconductores.
Parámetro del producto
Grado | Grado de MPD cero | Grado de producción | Grado de investigación | Grado de imitación | |
Diámetro | 150.0 mm +/- 0,2 mm | ||||
El grosor | 500 um +/- 25 um para el 4H-SI350 um +/- 25 um para el 4H-N | ||||
Orientación de la oblea | En el eje: <0001> +/- 0,5 grados para el eje 4H-SIOff: 4,0 grados hacia <11-20> +/- 0,5 grados para 4H-N | ||||
Densidad de micropipo (MPD) | 1 centímetro- ¿ Qué pasa? | 5 cm- ¿ Qué pasa? | 15 cm- ¿ Qué pasa? | 30 cm- ¿ Qué pasa? | |
Concentración de dopaje | Tipo N: ~ 1E18/cm3Tipo SI (dopado en V): ~ 5E18/cm3 | ||||
Piso primario (tipo N) | {10-10} +/- 5,0 grados | ||||
Duración plana primaria (tipo N) | 47.5 mm +/- 2,0 mm | ||||
Noche (tipo semi-aislante) | Noche | ||||
Exclusión de los bordes | 3 mm | ||||
TTV /Bow /Warp | 15um /40um /60um | ||||
La rugosidad de la superficie | Polish Ra 1 nm | ||||
CMP Ra 0,5 nm en la cara de Si |
Naturaleza del producto
Los sustratos 4H-N SiC presentan conductividad de tipo n debido a la presencia de dopantes de nitrógeno, que proporcionan electrones en exceso para la conducción electrónica.
Los sustratos de SiC demuestran un comportamiento semi-aislante, caracterizado por una alta resistividad y una conducción electrónica mínima, que es esencial para ciertas aplicaciones electrónicas y optoelectrónicas.
Presentación del producto
Pregunta y respuesta
¿Cuál es la diferencia entre 4H-SiC y 6H-SiC?
Todos los otros politipos de SiC son una mezcla de la unión de zinc-blenda y wurtzita.6H-SiC está compuesto por dos tercios de enlaces cúbicos y un tercio de enlaces hexagonales con una secuencia de apilamiento de ABCACB.