Sistema ultrafino de Semicondutor Al2O3 Sapphire Substrate Plate For Laser

Químicamente, el zafiro es el solo óxido de aluminio cristalino (Al2O3), y es útil en un alcance de transmisión a partir de la 0,2 - 5.5µm.Sapphire, tan haciendo le los materiales ideales para los usos exigentes (tales como sistemas del laser) debido a su dureza superficial extrema, alta conductividad termal, alta constante dieléctrica y resistencia a los ácidos y a los álcalis químicos comunes. Y el zafiro también es el segundo cristal más duro al lado de diamantes y, debido a su fuerza estructural, las ventanas del zafiro se pueden hacer mucho más ligeramente que otras ventanas dieléctricas comunes con transmitencia mejorada.
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Podemos suministrar servicio modificado para requisitos particulares profesional a tiempo y proporcionar la cooperación y la ayuda del nuevo dispositivo del desarrollo de productos y de la tecnología.

Zafiro del material (Al2O3)
Densidad (20°C) Kg/m3 3.98×103
Crystal Structure hexagonal
Constante del enrejado cristalino a=4.785Å c=12.991 Å
Dureza de Mohs 9
Punto de fusión 2045°C
Punto de ebullición 3000°C
Coeficiente de extensión termal α=5.8×10 -6 /K
Calor específico 0.418W.s/g/k
Conductio termal 25.12W/m/k (@100°C)
Índice de refracción (nd) no=1.768ne=1.76
dn/dt 13×10-6/K (@633nm)
Tranmission El T≈85% (0.3~5um)
Permitividad 11,5 (//c), 9,3 (⊥c)

1. Del plano de la orientación: Un eje ±0.1°
2. Aspereza superficial de Frontside: Ra<0.3nm
3. Aspereza superficial de la parte trasera: 0.8~1.2um
4. (O lado doble pulido, lado Ra<0.2nm)
5. TTV: <15um ARCO: - 15~0um DEFORMACIÓN: <20um
6. Laser Mark Series No. por necesidades
7. Paquete: los envases Vacío-sellados con nitrógeno rellenan en un ambiente de la clase 100

Sapphire Wafer Process Step


Muestra

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