Equipo de corte por láser de gran formato: tecnología básica para la futura producción de obleas SiC de 8 pulgadas
El carburo de silicio (SiC) representa no solo una tecnología crítica para la seguridad de la defensa nacional, sino también un foco clave para las industrias automotriz y energética globales.Como paso inicial de procesamiento para los materiales monocristalinos de SiCLa calidad del corte de las obleas determina fundamentalmente el rendimiento del adelgazamiento y pulido subsiguientes.aumento de las tasas de rotura y los costes de fabricaciónPor lo tanto, controlar el daño de las grietas superficiales es crucial para avanzar en la tecnología de fabricación de dispositivos SiC.
Equipo de adelgazamiento de obleas de ZMSH
El corte actual de lingotes de SiC se enfrenta a dos desafíos principales:
Para hacer frente a estos desafíos, el equipo del profesor Xiangqian Xiu de la Universidad de Nanjing ha desarrollado equipos de corte por láser de gran formato que reducen significativamente la pérdida de material y mejoran la productividad.Para un lingote de SiC de 20 mmAdemás, las obleas cortadas por láser presentan características geométricas superiores, lo que permite un grosor de 200 μm para un mayor rendimiento.
Las ventajas competitivas de este proyecto incluyen:
El análisis del mercado confirma que este equipo es la futura solución básica para la producción de SiC de 8 pulgadas.000 unidades sin alternativas locales madurasLa innovación de la Universidad de Nanjing tiene un potencial comercial significativo, con aplicaciones adicionales en GaN, Ga2O3 y procesamiento de diamantes.
ZMSH se especializa en proporcionar soluciones integrales de SiC, ofreciendo sustratos de SiC de 2 a 12 pulgadas, incluido el tipo 4H/6H-N, aislante 4H-semi y politipos 4H/6H-3C con espesores personalizables. También suministramos equipos completos de producción de SiC, desde sistemas de crecimiento de cristales hasta maquinaria avanzada de procesamiento de obleas, incluyendo equipos de corte y adelgazamiento por láser,ofrecer soluciones integrales para la industria de semiconductores.
Substrato de SiC de ZMSH de tipo 4H-N
Persona de Contacto: Mr. Wang
Teléfono: +8615801942596