A medida que la fabricación de carburo de silicio avanza hacia diámetros de oblea más grandes, la calidad de los bordes se vuelve cada vez más importante. Para 200mmOblea de SiC, no es suficiente evaluar únicamente el diámetro, el espesor, el TTV, la curvatura, la deformación y la rugosidad de la superficie. La condición del perímetro de la oblea puede afectar directamente la estabilidad de manipulación, el procesamiento epitaxial, la limpieza, la litografía, el adelgazamiento de la oblea y el rendimiento del dispositivo aguas abajo.
Una oblea puede tener una superficie central excelente pulida y al mismo tiempo contener astillas en los bordes, microfisuras o daños en la superficie alrededor del bisel. Estos defectos pueden convertirse en fuentes de partículas o puntos de inicio de fallas mecánicas durante el procesamiento posterior.
Por esta razón, los compradores de sustratos de SiC de 200 mm deben incluir la geometría del bisel, la exclusión de los bordes, los límites de rotura de los bordes y los requisitos de inspección de los bordes en la especificación de la oblea en lugar de tratar el borde como una característica secundaria.
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El aumento del diámetro de la oblea mejora la cantidad de dispositivos que se pueden procesar por oblea, pero también aumenta los requisitos mecánicos y de control del proceso impuestos al sustrato.
Una oblea de SiC de 200 mm debe pasar por varios sistemas automatizados, entre ellos:
Durante estas operaciones, el borde de la oblea experimenta repetidos contactos mecánicos y ciclos térmicos.
Por lo tanto, incluso los defectos de borde relativamente pequeños pueden llegar a ser importantes.
Los riesgos típicos relacionados con los bordes incluyen:
El trabajo de SEMI sobre las especificaciones de obleas de SiC monocristalinas pulidas ha incluido específicamente características físicas como la forma del borde, la planitud, la orientación y los defectos a medida que la industria avanza hacia sustratos de 200 mm.
El perímetro exterior de una oblea semiconductora normalmente tiene forma en lugar de dejarse como una esquina afilada de 90 grados.
Esta zona conformada se denomina habitualmente bisel, perfil de borde o contorno de borde.
El propósito de la conformación de los bordes es reducir la concentración de tensión mecánica y hacer que la oblea sea más resistente al astillamiento durante la manipulación y el procesamiento.
La metodología de prueba de contorno de borde de oblea de SEMI señala que contornear el borde ayuda a reducir el desconchado y también puede reducir problemas como la corona del borde epitaxial y el cordón del borde fotorresistente.
Para las obleas de SiC, la geometría del bisel es especialmente importante porque el SiC es extremadamente duro pero comparativamente frágil durante el mecanizado mecánico.
Es posible que una especificación de compra de oblea deba definir:
No existe una geometría de bisel única que sea ideal para cada proceso.
El perfil adecuado depende de factores como:
Por esta razón, los compradores sofisticados deben evitar especificar sólo "bisel estándar".
Cuando la geometría del borde es crítica, se debe incluir en la especificación de compra un dibujo del perfil del borde acordado o un método de inspección.
La exclusión de bordes (EE) define la región periférica de la oblea que está excluida de ciertos requisitos de superficie o geometría.
En terminología SEMI, la exclusión de bordes es esencialmente la distancia entre el límite del área de calidad fija y el perímetro nominal de la oblea.
Esta distinción es importante porque las propiedades de las obleas a menudo cambian cerca del borde.
Los ejemplos incluyen:
En consecuencia, un comprador no debería limitarse a especificar:
TTV ≤ X µm
Una especificación más completa debería aclarar dónde se mide el TTV y qué exclusión de bordes se aplica.
El mismo principio se aplica a:
La geometría cercana al borde se ha vuelto lo suficientemente importante como para que SEMI M67 defina métricas especializadas como ESFQR, ESFQD y ESBIR para evaluar la geometría de la oblea cerca del perímetro.
El desconchado de los bordes es uno de los defectos más visibles de los bordes de las oblea.
Puede ocurrir durante:
Al principio, una astilla puede parecer sólo un defecto cosmético, pero su importancia depende de su profundidad, ancho, ubicación y de si la grieta se extiende desde la región astillada.
Por lo tanto, para las obleas de producción, los compradores deben evitar especificaciones como:
Sin astillas graves en los bordes.
Esta redacción es difícil de inspeccionar objetivamente.
Una mejor RFQ debería definir criterios de aceptación mensurables, tales como:
Un borde dañado puede convertirse en un punto de concentración de tensiones.
Durante una carga térmica o mecánica posterior, una grieta existente puede extenderse más hacia el interior de la oblea.
El riesgo se vuelve particularmente importante durante:
Por lo tanto, el enfoque más seguro es evaluar tanto el chip visible como la posibilidad de microfisuras asociadas.
Uno de los problemas de calidad más difíciles es el daño subsuperficial o SSD.
El borde de una oblea puede parecer liso bajo una inspección visual normal, mientras que el material dañado permanece debajo de la superficie.
La investigación sobre el mecanizado de SiC ha demostrado que el rectificado puede producir modos de daño que incluyen picaduras y grietas medianas o laterales subsuperficiales. La investigación sobre 4H-SiC también ha demostrado que el esmerilado y el pulido pueden dejar daños en el subsuelo a nanoescala que no están completamente representados por las mediciones ordinarias de rugosidad de la superficie.
Las posibles formas de SSD incluyen:
Las variables importantes incluyen:
Un procesamiento mecánico más grueso o más agresivo generalmente crea una capa de daño más profunda que posteriormente debe eliminarse o reducirse.
Esta es la razón por la que una apariencia de espejo por sí sola no puede demostrar que el borde de la oblea tenga una excelente integridad mecánica.
La calidad de los bordes se vuelve especialmente importante cuando se utilizará un sustrato de SiC para el crecimiento homoepitaxial.
Una geometría de borde deficiente puede contribuir a complicaciones del proceso cerca del perímetro de la oblea, que incluyen:
El fabricante del dispositivo puede excluir intencionadamente parte del perímetro de la oblea del área utilizable del dispositivo, pero un daño excesivo en los bordes puede extenderse más allá de la zona de exclusión planificada.
Por lo tanto, para un sustrato de SiC listo para epitaxia, la solicitud de cotización debe considerar la relación entre:
bisel físico → exclusión de bordes → área utilizable → exclusión epitaxial → rendimiento del dispositivo
en lugar de tratar estos elementos de forma independiente.
Para sustratos de SiC de 200 mm de alto valor, la inspección entrante debe utilizar una secuencia estructurada.
Antes de abrir el envase de la oblea, inspeccione:
Esto ayuda a distinguir los daños de transporte de los defectos de fabricación.
Confirmar:
La trazabilidad se vuelve particularmente importante cuando se encuentran daños en los bordes repetidamente dentro del mismo lote de fabricación.
Inspeccione la circunferencia completa para:
Las condiciones de inspección deben estandarizarse.
La ampliación óptica se puede utilizar cuando se deben detectar defectos más pequeños.
Se debe prestar especial atención a:
La región de la muesca merece especial atención porque la geometría local es diferente del perímetro circular de la oblea.
Cuando sea necesario, mida:
SEMI M73 proporciona una metodología para extraer características de los perfiles de borde de oblea medidos, lo que refleja la creciente importancia de controlar cuantitativamente la forma del borde en el procesamiento avanzado de oblea.
El informe de inspección también debe incluir los parámetros de geometría de la oblea acordados, tales como:
No se debe asumir automáticamente que la geometría cercana al borde se comporta de manera idéntica al área central de la oblea.
Finalmente, inspeccione la relación entre el bisel y la superficie pulida de la oblea.
Compruebe por:
Una RFQ práctica puede contener los siguientes elementos:
| Parámetro | Información de ejemplo para especificar |
|---|---|
| Material | 4H-SiC |
| Diámetro | 200 milímetros |
| Conductividad | Tipo N / semiaislante |
| Orientación | Requisito del cliente |
| Fuera del eje | Especificar ángulo y dirección |
| Espesor | Valor nominal + tolerancia |
| Superficie | Si-face pulido/DSP/otro |
| televisión | Máximo permitido |
| Arco | Máximo permitido |
| Urdimbre | Máximo permitido |
| Perfil de borde | Estándar del proveedor o dibujo acordado. |
| Exclusión de bordes | Especificar exclusión de medición |
| astillado | Tamaño y cantidad máxima |
| Grietas | Definir permitido/no permitido |
| Inspección de bisel | Visual / óptico / dimensional |
| Partículas superficiales | Definir umbral de inspección |
| Rugosidad de la superficie | Lado de medición y ubicación. |
| Embalaje | Embalaje de oblea individual/cassette/sala blanca |
| Informe de inspección | Requerido |
| Trazabilidad | Se requiere identificación de lote y oblea |
Los valores de aceptación exactos deben acordarse entre el proveedor y el cliente porque los procesos de los dispositivos y los sistemas de metrología son diferentes.
Antes de comprar sustratos de 200 mm, los compradores pueden preguntar:
Estas preguntas suelen ser más útiles que simplemente solicitar una oblea genérica de "primera calidad".
A medida que la fabricación de SiC avanza hacia la producción de 200 mm, la calidad del borde de la oblea se convierte en una parte importante de la calificación del sustrato.
La superficie central pulida puede recibir la mayor parte de la atención, pero la geometría del bisel, la exclusión de bordes, las astillas y los daños ocultos en el subsuelo pueden influir en la confiabilidad del manejo, el procesamiento epitaxial, el control de la contaminación y el área utilizable de la oblea.
Para los equipos de adquisiciones, la clave es reemplazar requisitos vagos como "buena calidad de borde" por especificaciones mensurables.
Por lo tanto, una solicitud de cotización completa para obleas de SiC de 200 mm debe definir:
geometría de bisel + exclusión de bordes + criterios de astillado + aceptación de grietas + método de inspección + geometría de oblea + requisitos de informes.
Las especificaciones claras facilitan que tanto el proveedor de obleas como el fabricante del dispositivo establezcan criterios de inspección entrantes consistentes y reduzcan las disputas durante la calificación de la producción.
La exclusión de bordes es la región periférica entre el borde de la oblea y el límite del área utilizada para mediciones específicas o evaluación de calidad. Debe quedar claramente definido al especificar planicidad, defectos, partículas o uniformidad epitaxial.
Un bisel adecuadamente controlado reduce la concentración de tensión en los bordes afilados y ayuda a limitar el desconchado durante la manipulación. También puede afectar el comportamiento del procesamiento cercano al borde durante la epitaxia, el recubrimiento, la limpieza y la litografía.
Sí. Es posible que queden microfisuras y daños en el subsuelo debajo de una superficie visualmente lisa. Para aplicaciones exigentes, es posible que se requiera una inspección ampliada y controles de metrología o procesos adecuados.
A medida que la fabricación de carburo de silicio avanza hacia diámetros de oblea más grandes, la calidad de los bordes se vuelve cada vez más importante. Para 200mmOblea de SiC, no es suficiente evaluar únicamente el diámetro, el espesor, el TTV, la curvatura, la deformación y la rugosidad de la superficie. La condición del perímetro de la oblea puede afectar directamente la estabilidad de manipulación, el procesamiento epitaxial, la limpieza, la litografía, el adelgazamiento de la oblea y el rendimiento del dispositivo aguas abajo.
Una oblea puede tener una superficie central excelente pulida y al mismo tiempo contener astillas en los bordes, microfisuras o daños en la superficie alrededor del bisel. Estos defectos pueden convertirse en fuentes de partículas o puntos de inicio de fallas mecánicas durante el procesamiento posterior.
Por esta razón, los compradores de sustratos de SiC de 200 mm deben incluir la geometría del bisel, la exclusión de los bordes, los límites de rotura de los bordes y los requisitos de inspección de los bordes en la especificación de la oblea en lugar de tratar el borde como una característica secundaria.
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El aumento del diámetro de la oblea mejora la cantidad de dispositivos que se pueden procesar por oblea, pero también aumenta los requisitos mecánicos y de control del proceso impuestos al sustrato.
Una oblea de SiC de 200 mm debe pasar por varios sistemas automatizados, entre ellos:
Durante estas operaciones, el borde de la oblea experimenta repetidos contactos mecánicos y ciclos térmicos.
Por lo tanto, incluso los defectos de borde relativamente pequeños pueden llegar a ser importantes.
Los riesgos típicos relacionados con los bordes incluyen:
El trabajo de SEMI sobre las especificaciones de obleas de SiC monocristalinas pulidas ha incluido específicamente características físicas como la forma del borde, la planitud, la orientación y los defectos a medida que la industria avanza hacia sustratos de 200 mm.
El perímetro exterior de una oblea semiconductora normalmente tiene forma en lugar de dejarse como una esquina afilada de 90 grados.
Esta zona conformada se denomina habitualmente bisel, perfil de borde o contorno de borde.
El propósito de la conformación de los bordes es reducir la concentración de tensión mecánica y hacer que la oblea sea más resistente al astillamiento durante la manipulación y el procesamiento.
La metodología de prueba de contorno de borde de oblea de SEMI señala que contornear el borde ayuda a reducir el desconchado y también puede reducir problemas como la corona del borde epitaxial y el cordón del borde fotorresistente.
Para las obleas de SiC, la geometría del bisel es especialmente importante porque el SiC es extremadamente duro pero comparativamente frágil durante el mecanizado mecánico.
Es posible que una especificación de compra de oblea deba definir:
No existe una geometría de bisel única que sea ideal para cada proceso.
El perfil adecuado depende de factores como:
Por esta razón, los compradores sofisticados deben evitar especificar sólo "bisel estándar".
Cuando la geometría del borde es crítica, se debe incluir en la especificación de compra un dibujo del perfil del borde acordado o un método de inspección.
La exclusión de bordes (EE) define la región periférica de la oblea que está excluida de ciertos requisitos de superficie o geometría.
En terminología SEMI, la exclusión de bordes es esencialmente la distancia entre el límite del área de calidad fija y el perímetro nominal de la oblea.
Esta distinción es importante porque las propiedades de las obleas a menudo cambian cerca del borde.
Los ejemplos incluyen:
En consecuencia, un comprador no debería limitarse a especificar:
TTV ≤ X µm
Una especificación más completa debería aclarar dónde se mide el TTV y qué exclusión de bordes se aplica.
El mismo principio se aplica a:
La geometría cercana al borde se ha vuelto lo suficientemente importante como para que SEMI M67 defina métricas especializadas como ESFQR, ESFQD y ESBIR para evaluar la geometría de la oblea cerca del perímetro.
El desconchado de los bordes es uno de los defectos más visibles de los bordes de las oblea.
Puede ocurrir durante:
Al principio, una astilla puede parecer sólo un defecto cosmético, pero su importancia depende de su profundidad, ancho, ubicación y de si la grieta se extiende desde la región astillada.
Por lo tanto, para las obleas de producción, los compradores deben evitar especificaciones como:
Sin astillas graves en los bordes.
Esta redacción es difícil de inspeccionar objetivamente.
Una mejor RFQ debería definir criterios de aceptación mensurables, tales como:
Un borde dañado puede convertirse en un punto de concentración de tensiones.
Durante una carga térmica o mecánica posterior, una grieta existente puede extenderse más hacia el interior de la oblea.
El riesgo se vuelve particularmente importante durante:
Por lo tanto, el enfoque más seguro es evaluar tanto el chip visible como la posibilidad de microfisuras asociadas.
Uno de los problemas de calidad más difíciles es el daño subsuperficial o SSD.
El borde de una oblea puede parecer liso bajo una inspección visual normal, mientras que el material dañado permanece debajo de la superficie.
La investigación sobre el mecanizado de SiC ha demostrado que el rectificado puede producir modos de daño que incluyen picaduras y grietas medianas o laterales subsuperficiales. La investigación sobre 4H-SiC también ha demostrado que el esmerilado y el pulido pueden dejar daños en el subsuelo a nanoescala que no están completamente representados por las mediciones ordinarias de rugosidad de la superficie.
Las posibles formas de SSD incluyen:
Las variables importantes incluyen:
Un procesamiento mecánico más grueso o más agresivo generalmente crea una capa de daño más profunda que posteriormente debe eliminarse o reducirse.
Esta es la razón por la que una apariencia de espejo por sí sola no puede demostrar que el borde de la oblea tenga una excelente integridad mecánica.
La calidad de los bordes se vuelve especialmente importante cuando se utilizará un sustrato de SiC para el crecimiento homoepitaxial.
Una geometría de borde deficiente puede contribuir a complicaciones del proceso cerca del perímetro de la oblea, que incluyen:
El fabricante del dispositivo puede excluir intencionadamente parte del perímetro de la oblea del área utilizable del dispositivo, pero un daño excesivo en los bordes puede extenderse más allá de la zona de exclusión planificada.
Por lo tanto, para un sustrato de SiC listo para epitaxia, la solicitud de cotización debe considerar la relación entre:
bisel físico → exclusión de bordes → área utilizable → exclusión epitaxial → rendimiento del dispositivo
en lugar de tratar estos elementos de forma independiente.
Para sustratos de SiC de 200 mm de alto valor, la inspección entrante debe utilizar una secuencia estructurada.
Antes de abrir el envase de la oblea, inspeccione:
Esto ayuda a distinguir los daños de transporte de los defectos de fabricación.
Confirmar:
La trazabilidad se vuelve particularmente importante cuando se encuentran daños en los bordes repetidamente dentro del mismo lote de fabricación.
Inspeccione la circunferencia completa para:
Las condiciones de inspección deben estandarizarse.
La ampliación óptica se puede utilizar cuando se deben detectar defectos más pequeños.
Se debe prestar especial atención a:
La región de la muesca merece especial atención porque la geometría local es diferente del perímetro circular de la oblea.
Cuando sea necesario, mida:
SEMI M73 proporciona una metodología para extraer características de los perfiles de borde de oblea medidos, lo que refleja la creciente importancia de controlar cuantitativamente la forma del borde en el procesamiento avanzado de oblea.
El informe de inspección también debe incluir los parámetros de geometría de la oblea acordados, tales como:
No se debe asumir automáticamente que la geometría cercana al borde se comporta de manera idéntica al área central de la oblea.
Finalmente, inspeccione la relación entre el bisel y la superficie pulida de la oblea.
Compruebe por:
Una RFQ práctica puede contener los siguientes elementos:
| Parámetro | Información de ejemplo para especificar |
|---|---|
| Material | 4H-SiC |
| Diámetro | 200 milímetros |
| Conductividad | Tipo N / semiaislante |
| Orientación | Requisito del cliente |
| Fuera del eje | Especificar ángulo y dirección |
| Espesor | Valor nominal + tolerancia |
| Superficie | Si-face pulido/DSP/otro |
| televisión | Máximo permitido |
| Arco | Máximo permitido |
| Urdimbre | Máximo permitido |
| Perfil de borde | Estándar del proveedor o dibujo acordado. |
| Exclusión de bordes | Especificar exclusión de medición |
| astillado | Tamaño y cantidad máxima |
| Grietas | Definir permitido/no permitido |
| Inspección de bisel | Visual / óptico / dimensional |
| Partículas superficiales | Definir umbral de inspección |
| Rugosidad de la superficie | Lado de medición y ubicación. |
| Embalaje | Embalaje de oblea individual/cassette/sala blanca |
| Informe de inspección | Requerido |
| Trazabilidad | Se requiere identificación de lote y oblea |
Los valores de aceptación exactos deben acordarse entre el proveedor y el cliente porque los procesos de los dispositivos y los sistemas de metrología son diferentes.
Antes de comprar sustratos de 200 mm, los compradores pueden preguntar:
Estas preguntas suelen ser más útiles que simplemente solicitar una oblea genérica de "primera calidad".
A medida que la fabricación de SiC avanza hacia la producción de 200 mm, la calidad del borde de la oblea se convierte en una parte importante de la calificación del sustrato.
La superficie central pulida puede recibir la mayor parte de la atención, pero la geometría del bisel, la exclusión de bordes, las astillas y los daños ocultos en el subsuelo pueden influir en la confiabilidad del manejo, el procesamiento epitaxial, el control de la contaminación y el área utilizable de la oblea.
Para los equipos de adquisiciones, la clave es reemplazar requisitos vagos como "buena calidad de borde" por especificaciones mensurables.
Por lo tanto, una solicitud de cotización completa para obleas de SiC de 200 mm debe definir:
geometría de bisel + exclusión de bordes + criterios de astillado + aceptación de grietas + método de inspección + geometría de oblea + requisitos de informes.
Las especificaciones claras facilitan que tanto el proveedor de obleas como el fabricante del dispositivo establezcan criterios de inspección entrantes consistentes y reduzcan las disputas durante la calificación de la producción.
La exclusión de bordes es la región periférica entre el borde de la oblea y el límite del área utilizada para mediciones específicas o evaluación de calidad. Debe quedar claramente definido al especificar planicidad, defectos, partículas o uniformidad epitaxial.
Un bisel adecuadamente controlado reduce la concentración de tensión en los bordes afilados y ayuda a limitar el desconchado durante la manipulación. También puede afectar el comportamiento del procesamiento cercano al borde durante la epitaxia, el recubrimiento, la limpieza y la litografía.
Sí. Es posible que queden microfisuras y daños en el subsuelo debajo de una superficie visualmente lisa. Para aplicaciones exigentes, es posible que se requiera una inspección ampliada y controles de metrología o procesos adecuados.