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Equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión

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August 14, 2025
Palabra Clave: Equipo del semiconductor
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Etiquetas:
#4 pulgadas de SiC horno de crecimiento de lingotes #Fuego de crecimiento de lingotes de SiC de 8 pulgadas #6 pulgadas SiC horno de crecimiento de lingotes
Descripción del vídeo:
Descubra el equipo de rectificado/pulido de doble cara de alta precisión, diseñado para materiales duros y frágiles como zafiro, vidrio y cuarzo. Logre resultados ultra precisos con planitud ≤ 0.6 μm y rugosidad Ra ≤ 0.4 nm. Ideal para las industrias de semiconductores, optoelectrónica y aeroespacial.
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