La tecnología láser microjet es una tecnología avanzada y ampliamente utilizada de procesamiento de compuestos que combina un chorro de agua "tan delgado como un cabello" con un haz láser,y guía el láser con precisión a la superficie de la pieza mecanizada a través de la reflexión interna total de una manera similar a las fibras ópticas tradicionalesEl chorro de agua enfría continuamente el área de corte y elimina eficazmente el polvo producido por el procesamiento.
Escrito: Descubra el avanzado equipo láser microfluídico para el procesamiento de obleas de semiconductores, que combina la precisión del chorro de agua con la tecnología láser para un corte y perforación de alta precisión y bajo daño térmico en la fabricación de semiconductores.
Características De Productos Relacionados:
Láser Nd:YAG de estado sólido bombeado por diodo con ancho de pulso en us/ns y longitudes de onda de 1064 nm, 532 nm o 355 nm.
Sistema de chorro de agua purificada desionizada y filtrada a baja presión con un consumo de sólo 1 litro/hora a una presión de 300 bares.
Las dimensiones de las boquillas oscilan entre 30 y 150 um, hechas de zafiro o diamante para una precisión de la guía del láser.
Bombas de alta presión y sistemas de tratamiento de agua incluidos para un rendimiento óptimo.
Equipo de "tecnología" para la fabricación de "tecnologías" de "tecnología" de "tecnología" de "tecnología" de "tecnología" de "tecnología".
La rugosidad de la superficie Ra≤1,6um con velocidad de apertura ≥1,25 mm/s y velocidad de corte lineal ≥50 mm/s.
Adecuado para nitruro de galio, materiales semiconductores de banda prohibida ultraancha y materiales especiales aeroespaciales.
Las aplicaciones incluyen el corte de obleas, la perforación de chips, el embalaje avanzado y la reparación de defectos.
FAQ:
¿Para qué se utiliza la tecnología láser microjet?
La tecnología láser Microjet se utiliza para el corte, perforación y estructuración de alta precisión y bajo daño térmico en semiconductores y embalajes avanzados.
¿Cómo mejora el láser microjet la fabricación de semiconductores?
Permite una precisión submicrónica con daños térmicos cercanos a cero, sustituyendo las cuchillas mecánicas y reduciendo los defectos en materiales frágiles como GaN y SiC.
¿Qué materiales se pueden procesar con este equipo?
El equipo procesa materiales como silicio, carburo de silicio, nitruro de galio, diamante, óxido de galio, sustrato cerámico de carbono LTCC y cristales de centelleo.