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6 substrato de cerámica de la pulgada 1.0m m, placa de cerámica del alúmina para el proceso del semiconductor
  • 6 substrato de cerámica de la pulgada 1.0m m, placa de cerámica del alúmina para el proceso del semiconductor
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6 substrato de cerámica de la pulgada 1.0m m, placa de cerámica del alúmina para el proceso del semiconductor

Lugar de origen China
Nombre de la marca zmkj
Número de modelo ALN
Detalles del producto
Materiales:
Substratos de cerámica de AlN
Aplicaciones:
placas de cerámica para el proceso del semiconductor
color:
blanco o rojo o azul
Tamaño:
tamaño modificado para requisitos particulares
Pureza:
98%
Alta luz: 

Carburo de silicio de cerámica

,

Substrato de cerámica del alúmina

Descripción de producto

substrato de cerámica de AlN del nitruro de 6inch 1.0mmAluminum, alta conductividad termal, AlN modificado para requisitos particulares de cerámica, substratos de cerámica 6inch

 

AlN introduce

El nitruro de aluminio (AlN) de cerámica tiene alta conductividad termal (5-10 veces como el alúmina de cerámica),

la constante dieléctrica y el factor de disipación bajo, el buen aislamiento y las propiedades mecánicas excelentes, la resistencia termal no tóxica, alta, la resistencia química, y el coeficiente linear de la extensión es similares con el Si, que es ampliamente utilizado en componentes de la comunicación, poder más elevado llevado, acciona los dispositivos electrónicos y

otros campos. Los productos especiales de espec. se pueden producir por requerimientos.

 

FUNCIONAMIENTO DE PRODUCTO
Alta conductividad termal, alta fuerza flexural, temperatura alta, buen aislamiento eléctrico
Constante dieléctrica y pérdida bajas

USOS

  • Componentes de RF/Microwave

  • Módulo del poder

  • Transformadores de poder

  • Paquete del poder más elevado LED

  • Sub-soportes del diodo láser

  • Sub-soporte del microprocesador del LED

  • Paquetes microelectrónicos

  • Transistores

Nuestra fábrica de cooperación puede aplicó el proceso de la bastidor-cinta para la fabricación del substrato del alúmina. Con buena conductividad termal, el aislamiento, la resistencia de choque termal, la resistencia bien y el antiacido y

el álcali etc., nuestros substratos de cerámica se puede utilizar en base de cerámica híbrida de los circuitos integrados (HIC) de la grueso-película, de la radiación del LED, módulo de poder, dispositivos de semiconductor y otros campos.

 

Característica y Advantagement de AlN

- Nombre de producto:

Nitruro de aluminio/substrato de cerámica AIN 

- Material: Nitruro de aluminio/AlN
- Características típicas:

1. Conductividad muy arriba termal

2. Buen aislamiento eléctrico

3. Resistencia a la corrosión

4. Buena llanura

- Usos típicos:

1. Dispositivo electrónico del poder

2. Alto brillo LED

3. Dispositivo de comunicación

 
Propiedades materiales
Propiedades/material Alúmina del 96% AlN
Densidad (g/cm3) 3,6 3,3
Color Blanco Gris
Fuerza dieléctrica (KV/mm) ≥17 ≥17
Constante dieléctrica (1MHz) 10,6 8,9
Resistencia de volumen (@20°C, Ω.cm) ≥1014 ≥1014
Conductividad termal (@20°C, W/mk) ≥24 ≥175
Coeficiente de la extensión termal (10-6/°C) 6.5-8.0 4,8
Fuerza flexural (MPa) ≥350 ≥450
 

 

Tamaño regular
Grueso (milímetro)                                        anchura del lengthx (milímetro)
0,385

 

       2 ″ * 2 ″

50.8mm*50.8m m

 

 

          3 ″ * 3 ″

76.2mm*76.2m m

 

            4 ″ * 4 ″

101.6mm*101.6m m

              4,5 ″ * 4,5 ″

    114.3mm*114.3m m

0,5
0,635
1,0
                                            diámetro (milímetro)
1,0

Φ16

Φ19

Φ20

Φ26

Φ30

Φ35

Φ40

Φ45

Φ50

Φ52

Φ60 Φ75 Φ80
1,2
1,5
2,0
2,5
                       
Diámetro (milímetro) Grueso (milímetro)

2" 

(50.8m m)

DE 16m m

3" 

(76.2m m)

OF22mm

4"

(100m m)

DE 30m m

5"

(125m m)

DE 42.5m m

6"

(150m m)

DE 47.5m m

0,385
0,5
0,65
1,0

Servicio de pulido

   Nuestro substrato de AlN se puede pulir (pulimento solo y doble) por la máquina avanzada que importó

del extranjero. La aspereza superficial del substrato de cerámica puede alcanzar a 1nm sin poroso después de ser pulido.

  Es perfectamente conveniente para la aplicación para dispositivos de pequeña espec., alta precisión, atando con alambre densidad y buena estabilidad.

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Paquete y entrega

6 substrato de cerámica de la pulgada 1.0m m, placa de cerámica del alúmina para el proceso del semiconductor 1

Éntrenos en contacto con en cualquier momento

86-1580-1942596
Rm5-616, No.851, avenida de Dianshanhu, área de Qingpu, ciudad de Shangai, CHINA
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